[实用新型]用于下降法晶体生长的承托机构有效
| 申请号： | 201822237525.3 | 申请日： | 2018-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN209276670U | 公开（公告）日： | 2019-08-20 |
| 发明（设计）人： | 魏建德;方声浩;佘建军;叶宁;张志诚 | 申请（专利权）人： | 厦门中烁光电科技有限公司;中国电子科技集团公司第二十六研究所 |
| 主分类号： | C30B11/00 | 分类号： | C30B11/00 |
| 代理公司： | 北京慧智兴达知识产权代理有限公司 11615 | 代理人： | 韩龙;刘宝山 |
| 地址： | 361000 福建省厦门市集美区*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 坩埚 承托 承托机构 晶体生长 下降法 下降炉 托杆 本实用新型 下降装置 低导热材料 空心圆柱形 承托装置 固定相连 间隙填充 上下移动 氧化锆球 晶体的 容置 温场 填充 生长 加工 | ||
1.一种用于下降法晶体生长的承托机构，其特征在于，包括下降炉，下降炉内设置有承托碗，承托碗为空心圆柱形，承托碗的一端与托杆固定相连，托杆与下降装置相连；承托碗的另一端容置有坩埚，坩埚与承托碗的间隙填充有低导热材料，下降装置可通过托杆带动坩埚在下降炉内上下移动。
2.如权利要求1所述的用于下降法晶体生长的承托机构，其特征在于，承托碗包括第一空心圆柱体和第二空心圆柱体，第一空心圆柱体与第二空心圆柱体固定相连。
3.如权利要求2所述的用于下降法晶体生长的承托机构，其特征在于，第二空心圆柱体与托杆固定相连，托杆与下降装置相连，第一空心圆柱体容置有坩埚，坩埚与承托碗的间隙填充有低导热材料。
4.如权利要求2所述的用于下降法晶体生长的承托机构，其特征在于，坩埚包括竖直部与锥型部，竖直部与锥型部固定相连，锥型部容置在第一空心圆柱体内，第一空心圆柱体与锥型部之间的间隙填充低导热材料。
5.如权利要求1所述的用于下降法晶体生长的承托机构，其特征在于，低导热材料选用氧化锆球。
6.如权利要求5所述的用于下降法晶体生长的承托机构，其特征在于，坩埚与氧化锆球相连，坩埚与承托碗有间隙。
7.如权利要求1所述的用于下降法晶体生长的承托机构，其特征在于，下降炉为圆桶状，下降炉中间设置有空腔，承托碗设置在空腔中。
8.如权利要求7所述的用于下降法晶体生长的承托机构，其特征在于，下降炉包括高温区与低温区，高温区与低温区之间设置有隔热区，高温区设置在低温区上方。
9.如权利要求1所述的用于下降法晶体生长的承托机构，其特征在于，承托碗采用310S不锈钢制成。
10.如权利要求1所述的用于下降法晶体生长的承托机构，其特征在于，托杆的材料选用刚玉。
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