[实用新型]一种镀膜装置有效
申请号: | 201822214938.X | 申请日: | 2018-12-27 |
公开(公告)号: | CN209816260U | 公开(公告)日: | 2019-12-20 |
发明(设计)人: | 蔡家豪;方斌;刘加云;汪俊;邱智中;蔡吉明 | 申请(专利权)人: | 安徽三安光电有限公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24 |
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地址: | 241000 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 镀锅 本实用新型 镀膜装置 蒸镀材料 滑动 包覆性 蒸镀源 支撑轴 自转 蒸镀 | ||
本实用新型涉及蒸镀技术领域,特别涉及一种镀膜装置,通过更改镀锅的结构,使其即可在水平方向上滑动,又可以进行自转,而第三支撑轴的设置,有可以改变镀锅的角度,从而根据满足不同蒸镀源的需要,提升蒸镀材料的包覆性。
技术领域
本实用新型属于蒸镀技术领域,尤其涉及一种镀膜装置。
背景技术
镀膜是通过加热使镀膜材料由固态变为气态或分子状态,蒸发至基本上。附图1为一种可自转公转的仿行星式镀膜治具,镀膜治具在镀膜机腔4内部上方,所属系统镀膜治具包括治具主体1、公转系统2,通过连接着21固定在镀膜机腔4顶部、自转系统3,蒸发源5位于镀膜治具下方,蒸发物质经过加热后汽化从而产生膜材蒸汽,膜材蒸汽从下往上直线飞行运动到待镀膜产品表面,凝聚形成核后生长成固相薄膜。
但这种设计,镀膜治具与蒸发源之间的距离是固定的,使用不同的蒸镀材料进行蒸镀时,由于镀膜治具与蒸发源之间的距离固定,导致作为蒸发源的镀膜材料和基本之间的距离也是固定的,而蒸发源的蒸镀材料和基本之间的距离会影响蒸镀效果,进而导致多种蒸镀材料的蒸镀效果不可控的技术问题。现有技术中,虽然可以通过蒸发源的移动来改善这种问题,单,目前的电极包覆材料金在蒸镀时多采用电子束蒸发镀膜,移动金金属蒸镀源的风险较高,同时无法实现镀膜过程中把蒸镀源,也无法调整治具的角度。
发明内容
为解决以上问题,本实用新型提供了一种镀膜装置,包括:
蒸镀室:
设置于所述蒸镀室顶部的支撑轴,所述支撑轴另一端连接有镀锅;
设置于镀锅下方的蒸镀源;
其特征在于:所述支撑轴包括:
第一支撑轴,用于所述镀锅在水平方向上移动,第一支撑轴的一端通过水平滑动装置设置于蒸镀室顶部;
第二支撑轴,用于所述镀锅自转,第二支撑轴的一端通过旋转构件与第一支撑轴的另一端连接,第二支撑轴的另一端连接于镀锅;
第三支撑轴,用于调节镀锅的角度,第三支撑轴包括设置于第二支撑轴上的横轴和设置于所述横轴上的可升降或者伸缩的纵轴,所述纵轴的一端连接于镀锅。
优选的,所述水平滑动装置包括固定于蒸镀室顶部的横向滑轨和与所述滑轨相匹配的滑块。
优选的,所述滑块与所述横向滑轨之间设置有滚珠。
优选的,所述旋转构件在马达作用下进行自转。
优选的,所述旋转构件包括齿轮构件以及与所述齿轮构件相匹配的螺纹构件。
优选的,所述纵轴和所述第二支撑轴与所述镀锅活动连接。
优选的,所述镀锅为伞形,伞形镀锅中部的尖端处设置有连接柱,所述第二支撑轴连接于所述连接柱。
优选的,所述横轴与所述第二支撑轴呈十字型分布,纵轴分别这种于所述横轴的两端分别设置有纵轴。
优选的,设置于横轴两端的纵轴分别活动连接于所述镀锅两端。
优选的,所述第三支撑轴上设置有用于调整镀锅角度的驱动装置。
本实用新型提出的一种镀膜装置,通过更改镀锅的结构,使其即可在水平方向上滑动,又可以进行自转,而第三支撑轴的设置,有可以改变镀锅的角度,从而根据满足不同蒸镀源的需要,提升蒸镀材料的包覆性。
附图说明
图1为现有镀膜装置结构示意图。
图2为本实用新型具体实施方式之镀膜装置的结构示意图。
图3为本实用新型具体实施方式之镀膜装置在水平方向移动时的结构示意图。
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