[实用新型]一种用于大尺寸线掩膜版的转运装置有效

专利信息
申请号: 201822193705.6 申请日: 2018-12-26
公开(公告)号: CN209351733U 公开(公告)日: 2019-09-06
发明(设计)人: 林伟;肖鑫 申请(专利权)人: 成都路维光电有限公司
主分类号: B65B65/00 分类号: B65B65/00;B65G47/248;B65G41/00;B65G13/00
代理公司: 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 代理人: 唐邦英
地址: 610000 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 底座 滚珠丝杠 传动部 掩膜版 滚珠丝杠螺母 本实用新型 转运装置 尺寸线 上端面 旋转部 支撑座 转运 底座转动 对称设置 竖直状态 水平状态 转动连接 上端 滚筒 铰接 立板 摇杆 支撑 工作量 对称 配套 安全
【说明书】:

实用新型公开了一种用于大尺寸线掩膜版的转运装置,包括支撑部、旋转部和传动部,所述支撑部包括框架,所述旋转部包括底座,所述底座转动设置在框架上端面,所述底座上端面的一个端部设置有立板,所述底座的上端面至少对称设置有2排支撑座,2个对称的支撑座之间设置有滚筒,所述传动部包括设置在框架上的滚珠丝杠,所述滚珠丝杠上配套设置有滚珠丝杠螺母,所述滚珠丝杠的端部设置有摇杆,所述传动部还包括连杆,所述连杆一端与滚珠丝杠螺母铰接,另一端与底座的底部转动连接。本实用新型实现了将大尺寸掩膜版从竖直状态安全、高效地转运到水平状态,降低手动转运的工作量和风险。

技术领域

本实用新型涉及掩膜版制作技术领域,具体涉及一种用于大尺寸线掩膜版的转运装置。

背景技术

光掩膜版也称为Mask,俗称光罩,是用于平板显示、集成电路等制造的重要模具,是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。其主要流程是通过光刻设备描绘出所需的各种设计几何图形,通过显影制程,去除掉基板上不需要的光阻材料,再通过蚀刻制程,去除掉不被光阻覆盖的铬膜,再通过脱膜液去除残留下来的光阻,最后在基板上形成所设计图形效果,整个图形构成透光和不透光的区域。

掩膜版是光刻复制图形的基准和蓝本,光刻掩膜版上的任何缺陷都会对最终图形精度都会有较大影响,并直接影响最终制品的优品率。

在掩膜版的制造及后续的储运、安装过程时,涉及到大量要搬运掩膜版、掩膜版玻璃基板的环节,传统的做法是由操作人员用手动的方式对掩膜版、掩膜版玻璃基板进行抓取、转运或搬运。随着显示面板尺寸的不断增大,掩膜版尺寸也随之增大,目前11代TFT-LCD掩膜版尺寸为1620mm×1780mm×17mm,传统的搬运方式也不再适用。同时,产品尺寸增大后,对脏污、颗粒等缺陷的要求更加严格,传统手动的方式会对产品带来更大的品质风险。

大尺寸掩膜版在生产过程中,一般需要采用将掩膜版水平放置的方式进行运输。同时,掩膜版的运输需要进行保护,有专门的遮光、防尘、防静电的包装箱装运。目前,大尺寸掩膜版包装箱的放置方式一般设计为竖直放置,包装箱底部设置有可以活动的轮子。因此,为了配合大尺寸掩膜版在生产过程中水平运输的方式,需要将包装箱从竖直状态转运到水平状态。由于大尺寸掩膜版尺寸较大,其包装箱尺寸也较大,包装箱加上其中掩膜版的重量已经不再适用人工操作的方式进行转运。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种用于大尺寸线掩膜版的转运装置,实现将大尺寸掩膜版从竖直状态安全、高效地转运到水平状态,降低手动转运的工作量和风险。

本实用新型通过下述技术方案实现:

一种用于大尺寸线掩膜版的转运装置,包括支撑部、旋转部和传动部,所述支撑部包括框架,所述旋转部包括底座,所述底座转动设置在框架上端面,所述底座上端面的一个端部设置有立板,所述底座的上端面至少对称设置有2排支撑座,2个对称的支撑座之间设置有滚筒,所述传动部包括设置在框架上的滚珠丝杠,所述滚珠丝杠上配套设置有滚珠丝杠螺母,所述滚珠丝杠的端部设置有摇杆,所述传动部还包括连杆,所述连杆一端与滚珠丝杠螺母铰接,另一端与底座的底部转动连接。

所述大尺寸线掩膜版具体是指4.5代-11代,掩膜版尺寸涵盖520*800*10mm-1620*1780*17mm。

大尺寸掩膜版包装箱属于直立放置,由于生产设备要求,需要将其放倒至水平状态,由于重量等原因,不便于纯人工操作。

本实用新型所述支撑部的作用是为旋转部和传动部提供支撑和安装位置,其上会设置有与旋转部连接的轴孔以及用于安装传动部的螺孔,所述滚珠丝杠旋转时滚珠丝杠螺母会产生轴向力,通过连杆传递力使旋转部旋转,所有滚动部件均设计有轴承,所述滚珠丝杠上和滚珠丝杠螺母均为现有技术,所述立板的宽度设计为所有产品可用的宽度,转运时需要操作人员轻微扶着掩膜版包装箱。

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