[实用新型]快速下料的溅射镀膜设备有效

专利信息
申请号: 201822181393.7 申请日: 2018-12-25
公开(公告)号: CN209602630U 公开(公告)日: 2019-11-08
发明(设计)人: 傅志坚;苏良民 申请(专利权)人: 青岛华磊真空镀膜有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C23C14/50
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 266211 山东省*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 固定部 容纳槽 连接杆 转动 溅射镀膜设备 本实用新型 中心立柱 转动连接 根连接 内固定 下压杆 底盘 挂件 下料 电磁铁 半圆柱状 溅射镀膜 组件包括 金属板 金属块 上压杆 铁磁性 主壳体 镀膜 铰接 落下 听孔 主壳 体内
【说明书】:

本实用新型公开了一种快速下料的溅射镀膜设备,属于溅射镀膜领域,其包括半圆柱状的主壳体,在主壳体内固定连接有中心立柱,在中心立柱上转动连接有底盘,在底盘上转动连接有多根连接杆,每根连接杆上均连接有多组挂件组件,挂件组件包括固定连接于连接杆上的上压杆和下压杆,下压杆包括固定连接于连接杆上的固定部和铰接于固定部远离连接杆一端的转动部,在固定部靠近转动部一端开设有第一容纳槽,第一容纳槽内固定连接有电磁铁,在转动部靠近固定部一端开设有第二容纳槽,在第二容纳槽内固定连接有具有铁磁性的金属块,本实用新型具有在镀膜完成后可以直接使手机听孔金属板落下,方便工作人员收集的效果。

技术领域

本实用新型涉及溅射镀膜的技术领域,尤其是涉及一种快速下料的溅射镀膜设备。

背景技术

目前溅射镀膜技术是用离子轰击靶材表面,把靶材的原子被击出的现象称为溅射。溅射产生的原子沉积在基体表面成膜称为溅射镀膜。通常是利用气体放电产生气体电离,其正离子在电场作用下高速轰击阴极靶体,击出阴极靶体原子或分子,飞向被镀基体表面沉积成薄膜。在为手机听孔金属板镀膜时,由于手机听孔金属板表面有多个细孔,结构比较复杂,所以采用溅射镀膜技术能够保证镀膜均匀且镀膜速度块。

现有技术可参考授权公告号为CN201437550U的中国实用新型专利,其公开了一种磁控溅射镀膜设备,包括抽真空机组、与该抽真空机组连接的镀膜箱,所述磁控溅射镀膜设备还包括铰接于镀膜箱左侧的左门盖、铰接于镀膜箱右侧的右门盖,所述左门盖与所述右门盖均设有工件装夹装置。该磁控溅射镀膜设备的一个门盖关闭进行抽真空以及磁控溅射镀膜的过程的同时,可以在另一个门盖上对已经完成镀膜的工件进行拆卸并装夹待镀膜的工件,使得整机工作效率大大提高,既具有平面溅射靶的镀膜功能又具有旋转圆柱溅射靶的镀膜功能;其中工件装夹装置具有复合旋转功能,使得镀膜过程更加均匀,得到更好的镀膜效果。

上述中的现有技术方案存在以下缺陷:上述溅射镀膜设备在对手机听孔金属板镀膜时,虽然一次可以对大量的手机听孔金属板进行镀膜,但是在下料时都需要工作人员逐个取下,下料速度较慢。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种快速下料的溅射镀膜设备,在镀膜完成后可以直接使手机听孔金属板落下,方便工作人员收集,提高下料速度。

本实用新型的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的:

一种快速下料的溅射镀膜设备,包括半圆柱状的主壳体和转动连接于主壳体一侧的半圆柱状的辅壳体,辅壳体能够扣合与主壳体上形成圆柱形的密封壳体,在主壳体上固定连接有抽真空设备,在主壳体内固定连接有中心立柱,在中心立柱上转动连接有底盘,在底盘上转动连接有多根连接杆,每根连接杆均平行于中心立柱设置;

每根连接杆上均连接有多组挂件组件,所述挂件组件包括固定连接于连接杆上的上压杆和下压杆,上压杆位于下压杆的正上方且上压杆与下压杆相互平行,上压杆与下压杆的直线距离等于手机听孔金属板的高度;

下压杆包括固定连接于连接杆上的固定部和铰接于固定部远离连接杆一端的转动部,在固定部靠近转动部一端开设有第一容纳槽,第一容纳槽内固定连接有电磁铁,在转动部靠近固定部一端开设有第二容纳槽,在第二容纳槽内固定连接有具有铁磁性的金属块,当转动部平行于上压杆时,电磁铁抵接于金属块上。

通过采用上述方案,当需要对手机听孔金属板进行镀膜时,只需要将手机听孔金属板放置于上压杆和下压杆之间,将下压杆的转动部转动至与平行于上压杆,使上压杆和下压杆夹紧手机听孔金属板,电磁铁吸附金属块,固定转动部;当镀膜完成后,使所有电磁铁断电,电磁铁失去吸力,转动部受重力作用向下转动,放松手机听孔金属板,手机听孔金属板落下,由工作人员统一收集,下料速度块,整体生产效率高。

本实用新型进一步设置为:上压杆靠近下压杆一侧固定连接有具有弹性的上弹性垫,在下压杆靠近上压杆一侧固定连接有下弹性垫,上弹性垫和下弹性垫位于同一竖直面上。

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