[实用新型]反应槽的旁通式液位检测结构

说明书

本实用新型公开了一种反应槽的旁通式液位检测结构，包括反应槽；旁通管，其一端与反应槽的底部连通；液位检测管，竖直设置，其下端与旁通管的另一端连通；液位传感器，安装在液位检测管的顶部；排气管，其一端与液位检测管的上端连通，另一端与空气连通。本实用新型反应槽的旁通式液位检测结构，反应槽内液位高度的检测准确度较高，不会损坏硅片，维护方便、安全。

技术领域

本实用新型涉及反应槽技术领域，更具体地说，是涉及一种反应槽的旁通式液位检测结构。

背景技术

在清洗设备中，接触和浸没硅片的液位高度对片子的绒面和清洗效果有很大的影响，特别是在进行湿法刻蚀工序上，液位太高会导致过刻，液位太低硅片可能接触反应不充分，绒面不均匀，减重达不到要求，在硅片电池制成的过程中，不同的工艺对片子的减重也不同，需要对液位的高度和配方进行调整。

目前，反应槽内的液位高度是通过浮球来检测的，这样的检测结构具有以下缺点：

1.浮球在反应槽内，处理中的硅片可能会碰到，造成硅片的损害，及堵片；

2.浮球检测只是开关量检测，无法准确定义液位的高度，无法达到同样的工艺，同样的硅片清洗反应时，每次调节的液位高度一致，

3.调节控制液位的高度时，更多是靠经验，只能反馈泵的频率。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题，是提供一种反应槽的旁通式液位检测结构，具有较高的液位检测准确度，不会损坏硅片，维护方便、安全。

为了实现上述的目的，本实用新型的技术方案是：

一种反应槽的旁通式液位检测结构，包括反应槽；旁通管，其一端与反应槽的底部连通；液位检测管，竖直设置，其下端与旁通管的另一端连通；液位传感器，安装在液位检测管的顶部；排气管，其一端与液位检测管的上端连通，另一端与空气连通。

进一步地，所述液位检测管的下侧还设置有排液阀。

进一步地，所述反应槽的两侧还设有溢液槽。

进一步地，所述反应槽的下侧还设有调节阀门、泵和储液槽。

进一步地，所述调节阀门的一端通过进液管与反应槽的底部连通，调节阀门的另一端与泵的一端连通，泵的另一端通过管道与储液槽连通。

进一步地，所述排液阀的一端与液位检测管连通，另一端与溢流管连通。

进一步地，所述溢液槽通过溢流管与储液槽连通。

本实用新型的有益效果：本实用新型反应槽的旁通式液位检测结构，反应槽内液位高度的检测准确度较高，不会损坏硅片，维护方便、安全。

附图说明

下面结合附图对本实用新型的具体实施方式作进一步详细说明。

图1是本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

为了使本实用新型解决的技术问题、采用的技术方案、取得的技术效果易于理解，下面结合具体的附图，对本实用新型的具体实施方式做进一步说明。

需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本实用新型有关的部分而非全部结构。

如图1所示，在本实用新型的一个具体实施例中，提供了一种反应槽的旁通式液位检测结构，包括反应槽1、旁通管3、液位检测管6、液位传感器4和排气管5。