[实用新型]一种新型工艺气管及其专用清洗装置

说明书

本实用新型公开了一种新型工艺气管及其专用清洗装置，包括气管本体，所述气管本体的上端设有管口，所述气管本体上设有气栓，所述气栓的管壁上开设有螺纹孔，所述气栓由气栓头和气栓螺杆组成，所述气栓螺杆的杆体外表面设有外螺纹，其与螺纹孔的尺寸互相配合实现气栓与气管本体的咬合密封连接，所述气栓螺杆和气栓头的中心轴线上开设有通气孔，所述通气孔直通气管本体，清洗装置包括清洗箱体。本新型工艺气管能够工艺气体均匀得分布和发散，并且气栓采用螺纹与气管本体连接，便于拆卸与调整气栓之间的距离，使溅射在玻璃表面的膜层更加均匀，以及后期改进优化的效果；清洗箱体内部的第一固定组件和第二固定组件能够针对该工艺气管进行专门清洗。

技术领域

本实用新型涉及工艺气管生产技术领域，具体涉及一种新型工艺气管及其专用清洗装置。

背景技术

在玻璃基板的磁控溅射工艺中，需要在靶材附近依靠气管提供工艺气体Ar氩气，氩气在电场下电离产生正离子撞击阴极靶材，达到溅射沉积效果。现有工艺技术中，此种气管经过多次喷砂，开孔多存在大小不一，难以调整的问题，不能使氩气均匀得分布，影响靶材溅射沉积效果，因此需要一种能够使氩气分布均匀的工艺气管，与此同时，在工艺气管使用一段时间后管道的内部以及气孔处会有一些脏污的沉积，目前对其采用的人工的方式对气管进行直冲，这种清洗方式传统，费时费力，清洗后的水流到地上对环境造成了污染，且浪费水资源，不能够对其进行二次利用，因此亟待本领域技术人员解决此问题。

发明内容

为解决上述问题，本实用新型公开了一种新型工艺气管及其专用清洗装置，其目的在于解决现有工艺技术中，工艺气管经过多次喷砂，开孔多存在大小不一，难以调整的问题，不能使氩气均匀得分布，影响靶材溅射沉积效果，因此需要一种能够使氩气分布均匀的工艺气管，与此同时，在工艺气管使用一段时间后管道的内部以及气孔处会有一些脏污的沉积，目前对其采用的人工的方式对气管进行直冲，这种清洗方式传统，费时费力，清洗后的水流到地上对环境造成了污染，且浪费水资源，不能够对其进行二次利用的问题。

为了达到以上目的，本实用新型提供如下技术方案：一种新型工艺气管，包括气管本体，所述气管本体的上端设有用于连接存放氩气箱的管口，所述气管本体上设有气栓，所述气栓的管壁上开设有螺纹孔，所述气栓由气栓头和气栓螺杆组成，所述气栓螺杆的杆体外表面设有外螺纹，其与螺纹孔的尺寸互相配合实现气栓与气管本体的咬合密封连接，所述气栓螺杆和气栓头的中心轴线上开设有通气孔，所述通气孔直通气管本体。

作为本实用新型的一种改进，所述管口的直径小于气管本体的直径。

作为本实用新型的一种改进，所述气栓头和气栓螺杆为一体式连接。

作为本实用新型的一种改进，所述气栓头设计为正六边形。

作为本实用新型的一种改进，一种新型工艺气管的专用清洗装置，包括固定在机架上的清洗箱体，所述清洗箱体的内部设有固定工艺气管的固定组件以及用于清洗工艺气管的清洗组件，所述固定组件由第一固定组件和第二固定组件组成，所述第一固定组件和第二固定组件将工艺气管进行倾斜固定，所述清洗组件包括水箱、输水管以及高压水泵，所述高压水泵设置在输水管的管体上，所述输水管的出水口设有第一高压水管和第二高压水管，所述第一高压水管和第二高压水管均延伸至清洗箱体的内部并在其管口上设置高压水箱，所述高压水箱上设置高压冲洗喷头，所述清洗箱体的上端盖设有箱盖，所述清洗箱体的下端设置排水口，所述排水口连接净水装置，所述净水装置包括净水箱体以及设置在净水箱体内的活性炭过滤层和HEPA过滤网。

作为本实用新型的一种改进，所述第一固定组件和第二固定组件将工艺气管进行倾斜固定后，工艺气管的倾斜角度为45°。

作为本实用新型的一种改进，所述第一固定组件包括固定座和夹紧杆，所述夹紧杆的一端铰接在固定座上，另一端与固定座可拆卸连接，所述夹紧杆的杆体上设置压紧杆，所述压紧杆上设置压紧套，所述压紧杆与夹紧杆之间通过固定杆连接，所述压紧杆为半弧形圆面。