[实用新型]辐射校正装置及系统

权利要求书

1.一种辐射校正装置，其特征在于，所述辐射校正装置包括：控制器、成像模块；

所述控制器与所述成像模块电连接；

所述控制器用于发送采集指令时至所述成像模块；

所述成像模块用于在接收到所述采集指令时获取反射影像并发送至所述控制器。

2.如权利要求1所述的辐射校正装置，其特征在于，所述辐射校正装置还包括：

反射本体，所述反射本体设有漫反射板；

入射本体，所述入射本体与所述反射本体具有一夹角；

所述成像模块设于所述入射本体上，且位于靠近所述漫反射板的一侧；

所述漫反射板用于将光源反射至所述成像模块。

3.如权利要求2所述的辐射校正装置，其特征在于，所述辐射校正装置还包括连接装置；

所述连接装置的两端分别连接所述反射本体和所述入射本体；

所述连接装置用于调节所述反射本体和所述入射本体之间的夹角。

4.如权利要求3所述的辐射校正装置，其特征在于，所述夹角的取值范围为30°～45°。

5.如权利要求2所述的辐射校正装置，其特征在于，所述成像模块包括感光传感器和多个成像子单元；

每个成像子单元包括：滤镜、成像光纤和微透镜；

经过所述漫反射板反射的光源经过所述滤镜、所述成像光纤和所述微透镜至所述感光传感器。

6.如权利要求2所述的辐射校正装置，其特征在于，所述成像模块包括一主成像单元和若干单通道成像单元；

所述若干单通道成像单元分散设置于所述主成像单元的周围；

所述主成像单元包括成像物镜、抗混滤波器、红外滤光片、微透镜、拜尔滤镜以及光电二极管，经过所述漫反射板反射的光源经过所述成像物镜、所述抗混滤波器、所述红外滤光片、所述微透镜、所述拜尔滤镜至所述光电二极管；

所述单通道成像单元包括滤镜、成像物镜、平行光镜以及光电二极管，经过所述漫反射板反射的光源经过所述滤镜、所述成像物镜、所述平行光镜至所述光电二极管。

7.如权利要求2所述的辐射校正装置，其特征在于，所述反射本体上设有滑槽，所述漫反射板通过所述滑槽滑入并固定于所述反射本体上。

8.一种辐射校正系统，其特征在于，所述辐射校正系统包括：服务器和如权利要求1-7中任意一项所述的辐射校正装置；

所述服务器与所述辐射校正装置和待校正的无人机通信连接；

所述服务器用于在所述辐射校正装置与所述无人机之间的距离在预设范围内时，发送所述采集指令至所述辐射校正装置。