[实用新型]改型整流二极管有效
| 申请号: | 201822083108.8 | 申请日: | 2018-12-12 |
| 公开(公告)号: | CN208954992U | 公开(公告)日: | 2019-06-07 |
| 发明(设计)人: | 崔峰敏 | 申请(专利权)人: | 傲迪特半导体(南京)有限公司 |
| 主分类号: | H01L29/10 | 分类号: | H01L29/10;H01L29/06;H01L29/861 |
| 代理公司: | 江苏致邦律师事务所 32230 | 代理人: | 徐蓓;尹妍 |
| 地址: | 210034 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 高掺杂 环形结构 整流二极管 基区 本实用新型 改型 衬底 二极管恢复 性能改善 正向电流 薄基区 外源 覆盖 改进 | ||
1.一种改型整流二极管,低掺杂N型硅衬底上设有高掺杂P型硅基区,形成PN结,所述低掺杂N型硅衬底呈圆角正方体状,N型硅衬底表面沉积金属Al作为阳极,N型硅衬底的背面沉积金属Ag作为阴极,所述阴极、阳极外设有保护膜,其特征在于,所述N型硅衬底上有3个环形结构,最外环的高掺杂N型第一环形结构,中间的高掺杂P型第二环形结构,高掺杂P型硅基区侧的高掺杂P型第三环形结构;其中,所述第三环形结构覆盖N型硅衬底和高掺杂P型硅基区的连接处。
2.根据权利要求1所述的一种改型整流二极管,其特征在于,所述第一环形结构宽度为45μm;第二环形结构宽度为12μm;第三环形结构宽度为25μm,其中10μm宽度与高掺杂P型硅基区重合。
3.根据权利要求1或2所述的一种改型整流二极管,其特征在于,所述第二环形结构、第三环形结构深度为18μm。
4.根据权利要求1所述的一种改型整流二极管,其特征在于,所述第一环形结构、第二环形结构、第三环形结构间的横向距离依次为80μm、50μm。
5.根据权利要求1所述的一种改型整流二极管,其特征在于,所述N型硅衬底、高掺杂P型硅基区、第一环形结构、第二环形结构、第三环形结构上设有碳纳米管CNT层。
6.根据权利要求1所述的一种改型整流二极管,其特征在于,所述低掺杂N型硅衬底深度为52μm;高掺杂P型硅基区深度为3μm。
7.根据权利要求1所述的一种改型整流二极管,其特征在于,所述低掺杂N型硅衬底电阻率为30±3Ω·cm。
8.根据权利要求1所述的一种改型整流二极管,其特征在于,所述金属Al的厚度为4μm,所述金属Ag的厚度为0.5μm。
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