[实用新型]一种净洗装置

说明书

本实用新型公开了一种净洗装置，该净洗装置包括槽体，槽体的内部安装有蒸发槽与净洗槽，槽体从上到下依次安装有干燥管，冷凝管以及比重分离器，蒸发槽、净洗槽以及冷凝管之间形成蒸气区，蒸气区与干燥管之间形成干燥区；槽体上安装有喷淋头，喷淋头安装在净洗槽的上方，喷淋头安装在蒸气区位置，喷淋头与净洗槽之间为喷淋区。本实用新型采用比重分离器，含将有脱离自物品的污染物的溶剂组合物中的轻比重污染物利用比重分离原理除去，并在净洗槽与蒸发槽间的槽隔板上设置除水槽，进一步将氢氟醚中溶解的水除去，从而达到提高净洗效果，延长净洗系统连续作业周期，抑制氢氟醚溶剂劣化。

技术领域

本实用新型涉及一种装置，特别涉及一种净洗装置。

背景技术

在半导体及光学器件制造等领域，涉及到的电子元件、透镜等光学元件等精密元器件通常需要精密清洗，以去除树脂、有机焊剂、油污、油脂、蜡以及在电子制造和电子机械应用中类似的污染物。

采用纯水清洗，或采用除污洗涤后再用纯水清洗，将其清洗干净。再经过除水步骤后，可实现元器件的净洗。中国实用新型专利CN 100471543C公开了长时间连续使用也可稳定维持良好的脱水性能的脱水方法，包括以下工序，在将选自氢氯氟烃类(HCFCs)、氢氟烃类(HFCs)以及氢氟醚类(HFEs)的至少1种与醇类作为必需成分的溶剂组合物中，浸渍在表面附着有水的物品来进行脱水的浸渍工序；通过比重分离法从含有脱离自物品的水的溶剂组合物中分离出水的比重分离工序；使用凝集的过滤器过滤在比重分离工序中水已被分离的溶剂组合物，将残存于溶剂组合物中的水进一步分离的过滤工序。

含氟类溶剂为有机溶剂中的某些氢原子被氟原子取代。其中，氢氟醚是一种氟化醚类化合物，就是醚类物质的某些氢原子被氟原子所取代，其臭氧消耗潜值(ODP)为零，温室效应潜值(GWP)较低。HFEs具有粘度低、不易燃、安全性高等特点，既有适度的溶解性又有良好的材料相容性。通过使用HFEs直接净洗精密元器件已经成为一种重要的清洗技术。但HFEs价格昂贵，其挥发性较高，导致清洗成本较高。采用加热、超声等方式强化清洗，通过设计合理的净洗装置和方案来提高HFEs的清洗效果，并增加回收利用效率，可减少HFEs用量，降低净洗成本。

无论是用水清洗再用HFEs除水的技术方案，还是采用HFEs直接清洗元器件，连续长时间使用后，水会进入HFEs净洗系统内，导致清洗效率下降。通过在溶剂循环的通路中，配置多孔氟树脂滤膜，阻挡溶剂中的水通过，进行水分离，以及在清洗装置中设计比重分离槽，将更高比例含量的水从清洗系统中除去，以维持良好的脱水和清洗效率。

但是，上述技术方案中，比重分离及膜分离除水后的HFEs中仍溶解一定量的水，水在HFEs中的溶解度为90～150ppm，在长期加热冷凝循环使用过程中，水会加速HFEs的劣化，甚至产生氟离子等腐蚀性物质，加之补耗HFEs引起腐蚀性物质累积，带来危害待清洗元器件的可能性。中国实用新型专利CN 101622201B公开了一种含氟基溶剂的混合溶液的纯化方法，依次通过水洗、活性炭处理、活性氧化铝处理及颗粒过滤处理四个步骤，得到纯化的含氟溶剂的溶液。但该外置纯化的净洗方案势必会增大净洗系统负荷，降低清洗剂循环使用效率。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种长时间连续使用也可以维持良好净洗性能的净洗装置，在净洗装置中内嵌比重分离器，含有脱离自物品的污染物的溶剂组合物中的轻比重污染物利用比重分离原理除去，并在净洗槽与蒸发槽间的槽隔板上设置除水槽，进一步将氢氟醚中溶解的水除去，从而达到提高净洗效果，延长净洗系统连续作业周期，抑制氢氟醚溶剂劣化。该净洗方法使用的净洗装置简单，除水操作均为内嵌设计，占地空间小，且干燥工序未增加净洗系统物料循环阻力，适合工业净洗应用。