[实用新型]一种人造革单面亚光处理系统

权利要求书

1.一种人造革单面亚光处理系统，包括用于涂布哑光涂层的涂布单元和用于烘干涂布后的人造革的烘干单元；其特征在于，还包括底座，所述的涂布单元和烘干单元固定在底座上，所述的烘干单元设置在涂布单元的上方，所述的底座的底部和地面之间存在供人造革通过的间隙；所述的底座的一侧设有放料单元，所述的底座的另外一侧设有用于暂存烘干后的人造革的暂存单元，所述的底座上设有位于涂布单元和暂存单元之间的第一支撑辊和第二支撑辊；所述的人造革经放料单元、间隙、第一支撑辊、第二支撑辊、涂布单元、烘干单元后进入到暂存单元内。

2.根据权利要求1所述的人造革单面亚光处理系统，其特征在于，所述的第二支撑辊设置在第一支撑辊的正上方。

3.根据权利要求1所述的人造革单面亚光处理系统，其特征在于，所述的涂布单元包括第三支撑辊、压辊、涂布辊、加热辊，所述的烘干单元包括加热箱、设置在加热箱上靠近放料单元一侧的进料口、设置在加热箱上靠近暂存单元一侧的出料口，所述的压辊设置在涂布辊的上方，所述的第三支撑辊设置在压辊的斜上方，所述的加热辊位于压辊的一侧，所述的第三支撑辊和加热辊位于压辊和第二支撑辊之间；所述的涂布辊的下方设有用于容置亚光涂料的助剂槽。

4.根据权利要求3所述的人造革单面亚光处理系统，其特征在于，所述的烘干单元的下方还设有位于进料口和压辊之间的第四支撑辊。

5.根据权利要求3所述的人造革单面亚光处理系统，其特征在于，所述的暂存单元包括暂存槽、设置在暂存槽和出料口之间的第五支撑辊。

6.根据权利要求5所述的人造革单面亚光处理系统，其特征在于，所述的暂存槽为一上表面开放的槽体结构，垂直于暂存槽长度方向的剖面为半圆形。