[实用新型]一种湿法设备的补液系统有效
申请号: | 201822019315.7 | 申请日: | 2018-11-28 |
公开(公告)号: | CN209418525U | 公开(公告)日: | 2019-09-20 |
发明(设计)人: | 陈瑶 | 申请(专利权)人: | 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;阿特斯阳光电力集团有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/67 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 胡彬 |
地址: | 215129 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 湿法设备 槽体 图像处理器 补液系统 图片获取 图像处理机构 本实用新型 进液系统 照明机构 太阳能电池 刻蚀技术 数值判断 通信连接 装置通信 控制槽 容置 过量 拍照 分析 图片 | ||
本实用新型涉及太阳能电池刻蚀技术领域,公开了一种湿法设备的补液系统,包括槽体、照明机构及图像处理机构,其中,槽体用于容置溶液;照明机构设置于槽体的顶部,用于对槽体的内部进行照明;图像处理机构包括设置于槽体的顶部的图片获取装置、与图片获取装置通信连接的图像处理器,图像处理器用于分析图片获取装置获得的图片的RGB数值,且图像处理器与湿法设备的进液系统通信连接。本实用新型的湿法设备的补液系统通过对槽内的溶液拍照,利用图像处理器分析图片的RGB数值,根据RGB数值判断溶液的浓度,从而控制湿法设备的进液系统是否向槽内添加药液,达到精准地控制槽内溶液的浓度的目的,也避免了过量添加药液造成的药液浪费,降低了成本。
技术领域
本实用新型涉及太阳能电池刻蚀技术领域,尤其涉及一种湿法设备的补液系统。
背景技术
近年来,随着太阳能电池片生产技术不断进步,生产成本不断降低,电池效率不断提高,人们对高效太阳能电池越来越重视。其中,选择性发射极结构是P-N结晶体硅太阳能电池目前使用的制备高效太阳能电池的主流技术之一。实现选择性发射极可通过多种方式,其中回刻技术是目前较成熟的工艺,其工艺流程主要分为扩散重掺杂区域、在金属区域用丝网印刷的方式将与前栅线图案相同的石蜡作为掩膜,然后用HF/HNO3的混合溶液将掩膜以外的重掺杂层表层刻蚀掉几十纳米的薄层形成轻掺区域,然后将石蜡用碱溶液清洗掉。
现有的回刻设备主要由酸刻槽-水洗槽-碱粗洗槽-碱精洗槽-水洗槽-烘干槽组成。其中,酸刻槽主要用来对硅片正表面没有石蜡保护的区域进行刻蚀形成轻掺杂区域,碱洗槽主要用来去除表面印有的石蜡。和传统的用于背面刻蚀的湿法设备一样,回刻设备主要通过进料端的感应器来对硅片进行计数,当计数达到设定的值时,将对各个槽体进行设定的药液补充。对于回刻设备,单纯通过对进料硅片计数进行补液的方式存在弊端,在工艺调试的初期,需要对酸刻槽内的药液进行激活,此过程不需要使用印有石蜡的硅片,只需要使用大量扩散后硅片与酸刻槽中药液反应逐步激活药液活性即可。该弊端是:
1)对于碱洗槽来说,大量没有印有石蜡的硅片并不会消耗碱溶液,实际碱溶液浓度变化不大,但仅通过进料端对硅片计数的方式来补充碱溶液时,会造成碱洗槽实际碱溶液浓度偏高,浪费药液且对工艺调试造成影响;
2)无法做到精准补液,浪费药液。
有鉴于上述的缺陷,本设计人,积极加以研究创新,以期创设一种湿法设备的补液系统,使其更具有产业上的利用价值。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提出一种湿法设备的补液系统,能够根据槽内溶液图片的RGB值控制药液的添加,可精准的控制药液浓度,同时节约药液成本。
为达此目的,本实用新型采用以下技术方案:
一种湿法设备的补液系统,包括槽体、照明机构及图像处理机构,其中:
所述槽体用于容置溶液;
所述照明机构设置于所述槽体的顶部,用能够对所述槽体的内部进行照明;
所述图像处理机构包括设置于所述槽体的顶部的图片获取装置、与所述图片获取装置通信连接的图像处理器,所述图像处理器能够分析所述图片获取装置获得的图片的RGB数值,且所述图像处理器与所述湿法设备的进液系统通信连接。
进一步地,所述槽体的侧壁上涂覆有避光涂层。
进一步地,所述照明机构包括安装于所述槽体顶部的灯板、多个设置于所述灯板上的灯体。
进一步地,所述灯板与所述槽体的顶部可拆卸连接。
进一步地,所述槽体的两个相对的侧壁的顶部上设有相平行的滑槽,所述灯板两端设有能够滑进或滑出所述滑槽的滑块。
进一步地,所述灯板的两端上均设有限制所述滑块相对所述滑槽滑动的制动件。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的