[实用新型]一种集成显示调控的多功能磁控溅射教学实验装置

说明书

本实用新型公开了一种集成显示调控的多功能磁控溅射教学实验装置，结构简单但集合了多种实验教学内容，多种参数且可显示可控制。腔盖密封贴合反应腔的开口，腔盖由升降装置驱动升降；基片座设置于腔盖内侧，基片座具有加热装置，基片座由基片座驱动装置驱动转动；溅射靶顶面设置有靶挡板，靶挡板由靶挡板驱动装置驱动摆动，基片座底面设置有基片挡板，基片挡板由基片挡板驱动装置驱动摆动；充气装置、抽真空装置与反应腔通气连接；各种装置分别与显示控制装置电连接。本实用新型采用带观察窗的单室结构，可以开展温度、压强、基片偏压、溅射功率、气体种类及比例、材料组分等多参数条件下的反应溅射，使得同一设备可完成多项实验教学内容。

技术领域

本实用新型涉及磁控溅射镀膜实验设备领域，特别涉及一种集成显示调控的多功能磁控溅射教学实验装置。

背景技术

在各种材质表面镀膜以增强其功能，在各个生产生活领域均有大量应用，其中磁控溅射镀膜具有高速、低温、低损伤等优点，被镀膜行业广泛使用。为了更好的研究镀膜过程中的参数变化对镀膜效果的影响，需要一种适合进行磁控溅射镀膜研究的实验装置。现有用于磁控溅射的实验教学设备较少，且一般是直流或射频系统，功能单一，可调控的条件不多，经常存在镀膜不均等问题，难以用于开展拓展性、探究性的实验教学。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题在于，提供一种集成显示调控的多功能磁控溅射教学实验装置，可以精确控制基片自旋速度、暴露镀膜的时长、温度、基片偏压、溅射功率、气体种类、比例、流量等多种参数，并且直观的集中进行显示调节，从而可以开展多参数条件下的中频反应磁控溅射以及真空获得与测量方面的实验教学，使得同一设备可完成多项实验教学内容。

为达到上述目的，本实用新型公开了一种集成显示调控的多功能磁控溅射教学实验装置，包括反应腔、腔盖、至少两个溅射靶、基片座、充气装置、抽真空装置、显示控制装置；

所述腔盖密封贴合所述反应腔的开口，所述腔盖由升降装置驱动升降；

所述基片座设置于所述腔盖内侧，所述基片座具有加热装置，所述基片座由基片座驱动装置驱动转动；

所述溅射靶设置于所述反应腔内，所述溅射靶之间设置有侧挡板；

所述溅射靶顶面设置有靶挡板，所述靶挡板由所述靶挡板驱动装置驱动摆动，所述基片座底面设置有基片挡板，所述基片挡板由基片挡板驱动装置驱动摆动；

所述充气装置、抽真空装置与所述反应腔通气连接；

所述腔盖驱动装置、加热装置、基片座驱动装置、靶挡板驱动装置、基片挡板驱动装置、充气装置、抽真空装置分别与所述显示控制装置电连接。

优选的，所述充气装置包括氩气瓶、氧气瓶、氮气瓶、混气阀，所述氩气瓶、氧气瓶、氮气瓶分别与所述混气阀通气连接，所述混气阀与所述反应腔通气连接，所述氩气瓶、氧气瓶、氮气瓶与所述混气阀之间分别设置有第一、第二、第三流量阀和第一、第二、第三流量计。

优选的，所述反应腔侧壁具有观察窗。

优选的，所述混气阀、第一、第二、第三流量计和第一、第二、第三流量阀分别与所述显示控制装置电连接。

相比于现有技术，本实用新型的有益效果在于：

采用带观察窗的单室结构，可以开展温度、压强、基片偏压、溅射功率、气体种类及比例、材料组分等多参数条件下的中频反应磁控溅射以及真空获得与测量方面的实验教学；可直观方便地显示和调节基片自转速度、镀膜时长、温度、偏压、功率、气体种类、比例、流量等多种参数，使得同一设备可完成多项实验教学内容，利于开展拓展性、探究性的实验教学。

附图说明

图1为本实用新型实施例整体结构示意图；

具体实施方式