[实用新型]一种缺陷检测设备

权利要求书

1.一种缺陷检测设备，其特征在于，包括：激光发射装置、分光装置、第一探测装置以及第二探测装置，

所述激光发射装置发出的探测光辐照到待测样品上，形成信号光，所述信号光包括所述探测光在所述待测样品的表面缺陷处发生散射而形成的散射光以及所述待测样品的表面缺陷和/或亚表面缺陷在所述探测光的激发下产生的荧光；

所述信号光入射到所述分光装置，经所述分光装置将所述信号光中包含的所述荧光和所述散射光分离，使得分离出的所述荧光入射到所述第一探测装置成像，分离出的所述荧光所述散射光入射到所述第二探测装置成像。

2.根据权利要求1所述的缺陷检测设备，其特征在于，所述分光装置包括物镜和分光器件，所述物镜的光轴与所述待测样品的反射光传播路径呈预设角度，且所述预设角度大于0，

所述信号光进入所述物镜，由所述物镜出射后入射到所述分光器件，由所述分光器件将所述信号光中包含的所述荧光和所述散射光分离。

3.根据权利要求2所述的缺陷检测设备，其特征在于，所述物镜的光轴垂直于所述待测样品的待测表面且穿过所述待测样品上的探测光辐照区域。

4.根据权利要求1所述的缺陷检测设备，其特征在于，还包括样品台，用于放置所述待测样品并调节所述待测样品的位置。

5.根据权利要求4所述的缺陷检测设备，其特征在于，所述样品台为三维电动移动平台。

6.根据权利要求1所述的缺陷检测设备，其特征在于，还包括高通滤波器，所述高通滤波器设置于所述分光装置与所述第一探测装置之间的荧光传输路径中，所述高通滤波器用于滤除所述探测光对应的散射光。

7.根据权利要求1所述的缺陷检测设备，其特征在于，还包括第一激光陷阱和第二激光陷阱，所述第一激光陷阱设置于所述待测样品的反射光传播路径上，所述第二激光陷阱设置于所述待测样品的透射光传播路径上，用于吸收残余的探测光。

8.根据权利要求1所述的缺陷检测设备，其特征在于，还包括用于辅助所述第一探测装置和所述第二探测装置采集所述待测样品的明场图像的照明光源。

9.根据权利要求1所述的缺陷检测设备，其特征在于，所述激光发射装置包括：激光器和光束控制模块，所述激光器发出的探测光经所述光束控制模块后入射到所述待测样品上，其中，所述光束控制模块用于调节所述探测光在所述待测样品上的辐照区域的形状和尺寸。

10.根据权利要求9所述的缺陷检测设备，其特征在于，所述激光发射装置还包括反射镜，由所述光束控制模块出射的探测光经所述反射镜反射后入射到所述待测样品上。