[实用新型]一种光源结构、光学投影模组、感测装置及设备有效
申请号: | 201821957256.1 | 申请日: | 2018-11-24 |
公开(公告)号: | CN209327768U | 公开(公告)日: | 2019-08-30 |
发明(设计)人: | 田浦延 | 申请(专利权)人: | 深圳阜时科技有限公司 |
主分类号: | G03B21/20 | 分类号: | G03B21/20;G01B11/24 |
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地址: | 518055 广东省深圳市南山*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 发光单元 光源结构 半导体基底 本实用新型 集合 感测装置 光学投影 模组 排布 电子技术领域 被测目标 发射光束 非周期性 周期重复 感测 预设 三维 | ||
1.一种光源结构,其特征在于:其用于发射光束至一被测目标物上进行三维感测,所述光源结构包括半导体基底及形成在所述半导体基底上的多个发光单元,所述发光单元可划分为多个发光单元集合,所述发光单元集合按照预设的周期重复排布,每一个所述发光单元集合包括三个或以上非周期性排布的发光单元。
2.如权利要求1所述的光源结构,其特征在于:所述发光单元集合在半导体基底上沿不同方向周期性重复排布。
3.如权利要求1所述的光源结构,其特征在于:所述发光单元集合内的每两个相邻发光单元之间的间距不相等但保持恒定。
4.如权利要求1所述的光源结构,其特征在于:所述发光单元集合在平面直角坐标系内按照预设周期进行平移重复。
5.如权利要求1所述的光源结构,其特征在于:所述发光单元集合在平面极坐标系内按照预设的角度周期进行旋转重复。
6.如权利要求1所述的光源结构,其特征在于:所述发光单元选自垂直腔面发射激光器、发光二极管及激光二极管中的任意一种及其组合。
7.一种光学投影模组,其特征在于:用于投射具有预设图案的图案化光束至被测目标物上进行感测,其包括光束调整元件、图案化光学元件及如权利要求1至6中任意一项所述的光源结构,所述光束调整元件用于对光源结构所发出的光束进行调整以使其满足预设的传播特性要求,所述图案化光学元件用于将光源结构发出光束的光场进行重新排布以形成具有预设图案的图案化光束。
8.如权利要求7所述的光学投影模组,其特征在于:所述光束调整元件选自准直元件、扩束元件、反射元件、光学微透镜组及光栅中的一种及其组合。
9.一种感测装置,其特征在于:其用于感测被测目标物的三维信息,其包括如权利要求7或8中任意一项所述的光学投影模组及感测模组,所述感测模组用于感测所述光学投影模组在被测目标物上投射的预设图案并通过分析所述预设图案的图像获取被测标的物的三维信息。
10.一种设备,其特征在于:包括权利要求9所述的感测装置,所述设备根据所述感测装置所感测到的被测目标物的三维信息来执行相应功能。
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