[实用新型]蝶阀和气体控制装置有效
申请号: | 201821955165.4 | 申请日: | 2018-11-26 |
公开(公告)号: | CN209494944U | 公开(公告)日: | 2019-10-15 |
发明(设计)人: | 林立;吴孝哲;林宗贤;吴龙江;胡广严 | 申请(专利权)人: | 德淮半导体有限公司 |
主分类号: | F16K1/22 | 分类号: | F16K1/22;F16K1/36;F16K1/42;F16K31/12;F16K31/04 |
代理公司: | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人: | 孙佳胤;董琳 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 管路通道 蝶阀 阀叶 特氟龙 挡块 气体控制装置 阀体 管壁 本实用新型 内漏 垂直 封闭 延伸 | ||
一种蝶阀和气体控制装置,其中所述蝶阀包括阀体、阀叶和特氟龙挡块,其中所述阀体中具有管路通道,所述阀叶位于管路通道中,特氟龙挡块位于管路通道管壁上,所述特氟龙挡块在阀叶旋转到垂直于管壁的延伸方向时,与阀叶接触,从而将管路通道封闭。本实用新型的蝶阀能防止内漏的产生。
技术领域
本实用新型涉及半导体设备领域,尤其涉及蝶阀和气体控制装置。
背景技术
蝶阀又叫翻板阀,是一种结构简单的调节阀,可用于低压管道介质的开关控制,比如可用于控制空气、水、蒸汽等各种类型流体的流动。蝶阀在管道上主要起调节流量的作用,蝶阀启闭件是一个圆盘形的阀叶,在阀体内绕其自身的轴线旋转,从而达到调节流量的目的。
化学气相沉积(CVD)在半导体技术中是很重要的一个环节,化学气相沉积是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积薄膜材料的技术,沉积的薄膜材料具体包括绝缘材料、金属材料和金属合金材料。CVD工艺成膜的过程都需要一个特定压力,目前通常采用蝶阀来调控工艺腔室中压力。
但是现有的蝶阀仍存在较大的内漏,不能有效防止真空泵故障时带来的空气的倒灌。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是怎样防止蝶阀内漏。
为了解决上述问题,本实用新型提供了一种蝶阀,包括:阀体、阀叶和特氟龙挡块,其中所述阀体中具有管路通道,所述阀叶位于管路通道中,特氟龙挡块位于管路通道管壁上,所述特氟龙挡块在阀叶旋转到垂直于管壁的延伸方向时,与阀叶接触,从而将管路通道封闭。
可选的,所述阀叶的材料为金属,所述阀叶的边缘侧壁呈弧面。
可选的,所述阀叶的半径小于管路通道的半径,所述特氟龙挡块的宽度大于所述阀叶的半径与管路通道的半径之差。
可选的,所述特氟龙挡块包括第一部分和与第一部分相连的第二部分,第一部分和第二部分分别位于阀叶的转动轴中心线两侧。
可选的,特氟龙挡块的第一部分和第二部分均至少包括一倾斜表面,所述阀叶旋转到垂直于管壁的延伸方向时,所述阀叶与第一部分和第二部分的倾斜表面接触,将管路通道封闭。
可选的,所述特氟龙挡块面向管路通道中气体流入的方向的表面为倾斜表面。
可选的,所述特氟龙挡块的第一部分形状呈直角三角形,直角三角形的长直角边与管路通道的管壁接触,所述特氟龙挡块的第二部分形状呈三角形,三角形的长边与管路通道的管壁接触,所述阀叶旋转到垂直于管壁的延伸方向时,阀叶边缘一部分与直角三角形的斜边接触,阀叶边缘另一部分与三角形的下边接触。
可选的,所述特氟龙挡块的第一部分和第二部分形状均呈三角形,三角形的长边均与管路通道的管壁接触,所述阀叶旋转到垂直于管壁的延伸方向时,阀叶边缘一部分与第一部分的三角形的上边接触,阀叶边缘另一部分与第二部分的三角形的下边接触。
可选的,还包括位于阀体外的电机,所述电机的转轴穿过阀体与阀叶固定连接,所述电机在接收到控制信号时,控制所述阀叶的旋转。
本发明还提供了一种气体控制装置,包括:工艺腔室、气体管路、前述所述的蝶阀和真空泵,其中所述气体管路的一端与工艺腔室连通,另一端与真空泵连通,所述蝶阀设置于工艺腔室和真空泵之间的气体管路上,当真空泵发生故障时,所述蝶阀将气体管路封闭。
与现有技术相比,本实用新型技术方案具有以下优点:
本实用新型的蝶阀包括阀体、阀叶和特氟龙挡块,其中所述阀体中具有管路通道,所述阀叶位于管路通道中,特氟龙挡块位于管路通道管壁上,所述特氟龙挡块在阀叶旋转到垂直于管壁的延伸方向时,与阀叶接触,从而将管路通道封闭,因而本实用新型的蝶阀能防止内漏的产生;
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