[实用新型]一种用于耐磨光电保护膜有效
申请号: | 201821922791.3 | 申请日: | 2018-11-21 |
公开(公告)号: | CN209176284U | 公开(公告)日: | 2019-07-30 |
发明(设计)人: | 樊勤海;樊秋实;刘洪权 | 申请(专利权)人: | 深圳市益达兴科技股份有限公司 |
主分类号: | B32B27/36 | 分类号: | B32B27/36;B32B27/06;B32B27/30;B32B27/08;B32B3/30;B32B33/00 |
代理公司: | 深圳市深弘广联知识产权代理事务所(普通合伙) 44449 | 代理人: | 向用秀 |
地址: | 518000 广东省深圳市宝安*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 保护膜 下表面 有机硅压敏胶 保护层 耐磨层 离型 本实用新型 多功能层 上表面 耐磨 二氧化硅粒子 部下表面 耐磨涂层 热熔胶 撕下 提拉 涂覆 哑光 粘接 污染 | ||
本实用新型公开了一种用于耐磨光电保护膜,包括保护膜主体,所述提拉部下表面通过粘接在热熔胶保护膜主体上,所述保护膜主体包括上PET基材层,所述上PET基材层上表面设置有上有机硅压敏胶保护层,所述上有机硅压敏胶保护层上表面涂覆有KN22耐磨涂层,所述上PET基材层下表面设置有多功能层,所述多功能层下表面设置有PC层,所述PC层下表面设置有PMMA层,所述PMMA层下表面设置有下PET基材层,所述下PET基材层下表面设置有下有机硅压敏胶保护层,所述下有机硅压敏胶保护层下表面设置有离型耐磨层。本实用新型通过离型耐磨层为哑光型离型耐磨层,离型耐磨层内设置有二氧化硅粒子,能够很好的使得保护膜主体撕下时不会留下残留物,从而不会污染需要保护的物体。
技术领域
本实用新型涉及光电保护膜技术领域,具体为一种用于耐磨光电保护膜。
背景技术
光电保护膜常用于家电和电子产品的显示屏的保护,光电保护膜长期使用后需要撕下更换,现有的光电保护膜不方便撕下,而且撕下后会有残留物残留在显示屏上,从而导致污染显示屏,给使用者带来了不好的体验。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种用于耐磨光电保护膜,旨在改善不方便撕下和撕下后会有残留物残留在显示屏上问题。
本实用新型是这样实现的:
一种用于耐磨光电保护膜,包括保护膜主体,所述保护膜主体上设置有缺口和提拉部,所述提拉部一边和保护膜主体为一体结构,所述提拉部其余三边和保护膜主体活动连接,所述提拉部下表面通过粘接在热熔胶保护膜主体上,所述保护膜主体包括上PET基材层,所述上PET基材层上表面设置有上有机硅压敏胶保护层,所述上有机硅压敏胶保护层上表面涂覆有KN22耐磨涂层,所述上PET基材层下表面设置有多功能层,所述多功能层下表面设置有PC层,所述PC层下表面设置有PMMA层,所述PMMA层下表面设置有下PET基材层,所述下PET基材层下表面设置有下有机硅压敏胶保护层,所述下有机硅压敏胶保护层下表面设置有离型耐磨层。
进一步的,所述离型耐磨层为哑光型离型耐磨层,所述离型耐磨层内设置有二氧化硅粒子。
进一步的,所述保护膜主体上表面由多个凹面和凸面组成,凹面和凸面交错设置。
进一步的,所述多功能层包括抗蓝光剂、抗静电剂和抗牛顿环涂布树脂。
进一步的,所述缺口呈圆弧状,所述缺口的数量为两个。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
(1)、本实用新型通过离型耐磨层为哑光型离型耐磨层,离型耐磨层内设置有二氧化硅粒子,能够很好的使得保护膜主体撕下时不会留下残留物,从而不会污染需要保护的物体。
(2)、通过保护膜主体上表面由多个凹面和凸面组成,凹面和凸面交错设置,使得保护膜主体具有很好的排气和保护性能。
(3)、通过多功能层包括抗蓝光剂、抗静电剂和抗牛顿环涂布树脂,使得保护膜主体具有抗蓝光、抗静电和抗牛顿环的效果。
(4)、通过缺口呈圆弧状,缺口的数量为两个,缺口和提拉部配合,从而方便将保护膜主体撕下。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施方式的技术方案,下面将对实施方式中所需要使用的附图作简单地介绍,应当理解,以下附图仅示出了本实用新型的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
图1是本实用新型第一实施例的一种用于耐磨光电保护膜主视图;
图2是图1所示的一种用于耐磨光电保护膜的主视图。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市益达兴科技股份有限公司,未经深圳市益达兴科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201821922791.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。