[实用新型]一种磁控溅射设备

权利要求书

1.一种磁控溅射设备，其特征在于，包括柔性连接机构、第一工艺腔、第二工艺腔和控制机构；其中，

所述柔性连接机构包括柔性连接管，所述柔性连接管的两端分别与所述第一工艺腔的腔壁和所述第二工艺腔的腔壁相连接；

所述控制机构被设置为用于控制所述柔性连接管伸缩，以改变所述第一工艺腔和所述第二工艺腔之间的距离。

2.根据权利要求1所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述柔性连接管为波纹管。

3.根据权利要求1所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述柔性连接机构还包括分别设置在所述柔性连接管的两端的第一柔性连接管法兰和第二柔性连接管法兰；

所述第一工艺腔上设有第一连接法兰，所述第二工艺腔上设有第二连接法兰；

所述第一柔性连接管法兰和所述第二柔性连接管法兰分别与所述第一连接法兰和所述第二连接法兰相连接。

4.根据权利要求3所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述控制机构包括驱动杆和驱动单元；

所述第一柔性连接管法兰和/或所述第一连接法兰上设有驱动杆孔，所述驱动杆的一端与所述驱动杆孔相配合，所述驱动杆的另一端与所述第二柔性连接管法兰和/或所述第二连接法兰相连接；

所述驱动单元被设置为用于驱动所述驱动杆沿着所述驱动杆孔移动，以改变所述第一柔性连接管法兰和所述第二柔性连接管法兰之间的距离。

5.根据权利要求4所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述控制机构还包括用于安装所述驱动单元的驱动单元安装支架，所述驱动单元安装支架固定在所述第二柔性连接管法兰上。

6.根据权利要求5所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述驱动单元安装支架具有板状结构，所述驱动单元的外壳与所述驱动单元安装支架固定连接。

7.根据权利要求4所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述驱动杆沿着所述驱动杆孔的移动行程小于或等于所述第一工艺腔和/或所述第二工艺腔的高度。

8.根据权利要求4所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述控制机构包括两套，且两套所述控制机构对称设置在所述柔性连接管的径向方向的两侧。

9.根据权利要求3所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述第一柔性连接管法兰和所述第一连接法兰之间还设有第一密封圈；

所述第二柔性连接管法兰和所述第二连接法兰之间还设有第二密封圈。

10.根据权利要求1至9任一项中所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述磁控溅射设备还包括距离传感器和控制器；

所述距离传感器被设置为用于检测靶材和基片之间的距离，所述控制器被设置为用于采集所述距离传感器检测到的距离。