[实用新型]一种波纹管清洗装置

说明书

本实用新型涉及一种波纹管清洗装置，包括：清洗杆，所述清洗杆的第一端设置有第一喷嘴和第二喷嘴，所述第一喷嘴和所述第二喷嘴对称设置在所述清洗杆的第一端；进水管道，所述进水管道的第一端与所述清洗杆的第二端连通；第一阀门，所述第一阀门设置在所述第一喷嘴与所述清洗杆的连接处；第二阀门，所述第二阀门设置在所述第二喷嘴与所述清洗杆的连接处。其优点在于，在波纹管一侧设置清洗装置，并利用喷嘴对准波纹管，能够及时清理残余在波纹管上的CMP研磨液，避免CMP研磨液在波纹管上结晶，减少CMP研磨液对波纹管的腐蚀，从而避免出现漏液等情况，提高波纹管使用寿命，提高产品良率，降低生产成本；清洗液通过多个喷嘴，可以对波纹管针对性清洗。

技术领域

本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种波纹管清洗装置。

背景技术

在半导体制造过程中，需要对晶圆表面进行研磨工艺(抛光工艺)。通常使用的研磨工艺为化学机械研磨(Chemical Mechanical Polish，CMP)。在CMP机台周围设置有多个喷油管，喷油管的一端对称地设置有两个波纹管。在CMP过程中，CMP研磨液会在波纹管上积累。由于CMP研磨液具有一定氧化性和腐蚀性，会导致CMP研磨液在波纹管上结晶，进而腐蚀波纹管，使得波纹管寿命减少，并且出现漏液等情况，进而影响产品良率。

因此，亟需一种能够去除波纹管上的CMP研磨液，提高波纹管使用寿命的清洗波纹管的装置。

实用新型内容

本实用新型的目的是针对现有技术中的不足，提供一种波纹管清洗装置。

为实现上述目的，本实用新型采取的技术方案是：

一种波纹管清洗装置，包括：

清洗杆，所述清洗杆的第一端设置有第一喷嘴和第二喷嘴，所述第一喷嘴和所述第二喷嘴对称设置在所述清洗杆的第一端；

进水管道，所述进水管道的第一端与所述清洗杆的第二端连通；

第一阀门，所述第一阀门设置在所述第一喷嘴与所述清洗杆的连接处；

第二阀门，所述第二阀门设置在所述第二喷嘴与所述清洗杆的连接处。

优选地，还包括：

第三阀门，所述第三阀门设置在所述进水管道的第二端。

优选地，还包括：

进气管道，所述进气管道的第一端与所述清洗杆的第二端连通。

优选地，还包括：

第三阀门，所述第三阀门设置在所述进水管道的第二端；

第四阀门，所述第四阀门设置在所述进气管道的第二端。

优选地，还包括：

第一单向阀，所述第一单向阀设置在所述进水管道的第一端；

第二单向阀，所述第二单向阀设置在所述进气管道的第一端。

优选地，还包括：

第一三通阀，所述第一三通阀的第一端与所述清洗杆的第二端连通，所述第一三通阀的第二端与所述进水管道的第一端连通，所述第一三通阀的第三端与所述进水管道的第一端连通。

优选地，所述第一喷嘴的表面设置有复数个第一通孔；

所述第二喷嘴的表面设置有复数个第二通孔。

优选地，复数个所述第一通孔的轴向与所述第一喷嘴的轴向共向或不共向；和/或

复数个所述第二通孔的轴向与所述第二喷嘴的轴向共向或不共向。