[实用新型]一种PVD真空电弧镀膜装置有效

专利信息
申请号: 201821873812.7 申请日: 2018-11-14
公开(公告)号: CN209194040U 公开(公告)日: 2019-08-02
发明(设计)人: 李启炎 申请(专利权)人: 杭州云度新材料科技有限公司
主分类号: C23C14/32 分类号: C23C14/32
代理公司: 杭州永绎专利代理事务所(普通合伙) 33317 代理人: 许传秀
地址: 311402 浙江省杭*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 真空电弧镀膜 喷头 螺栓 箱体内腔 电动机 水平板 支撑板 镀膜 套环 圆轴 本实用新型 镀膜设备 内部螺纹 配合设置 有效调节 镀膜件 固定板 固定箱 喷出量 输出轴 支撑腿 卡槽 卡扣 圆孔 把手
【说明书】:

实用新型涉及镀膜设备技术领域,且公开了一种PVD真空电弧镀膜装置,包括箱体,所述箱体底部的两侧均固定安装有支撑腿,所述箱体内腔底侧的中部固定安装有电动机,所述电动机的输出轴上固定连接有圆轴,所述圆轴的顶部固定安装有水平板,所述水平板顶部的一侧固定安装有支撑板,所述支撑板的内部螺纹套装有螺栓,所述螺栓的一侧固定安装有固定板,所述箱体内腔的一侧固定安装有固定箱。该PVD真空电弧镀膜装置,通过卡槽和卡扣的配合使用,能够使喷头可以在套环的一侧旋转,通过套环、喷头、圆孔和把手之间的配合设置,能够有效调节原料喷出量,达到了控制镀膜量的效果,解决了不同待镀膜件的镀膜量不同的问题。

技术领域

本实用新型涉及镀膜设备技术领域,具体为一种PVD真空电弧镀膜装置。

背景技术

PVD真空镀膜设备的工作原理就是在真空条件下,利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化,在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应物沉积在基材上,它具有沉积速度快和表面清洁的特点,特别具有膜层附着力强、绕性好、可镀材料广泛等优点。

镀膜设备在镀膜过程中,将待镀膜件的表面均匀镀膜,需要旋转待镀膜件,使每个面充分镀膜,不同的待镀膜件所需的镀膜量不同,需要可以调节镀膜量的镀膜设备,为此我们提出一种PVD真空电弧镀膜装置。

实用新型内容

针对现有技术的不足,本实用新型提供了一种PVD真空电弧镀膜装置,具备待镀膜件每个面充分镀膜,可以调节镀膜量的优点,解决了镀膜过程需要将待镀膜件换面,不能定量镀膜,镀膜不够均匀的问题。

本实用新型提供如下技术方案:一种PVD真空电弧镀膜装置,包括箱体,所述箱体底部的两侧均固定安装有支撑腿,所述箱体内腔底侧的中部固定固定安装有电动机,所述电动机的输出轴上固定连接有圆轴,所述圆轴的顶部固定安装有水平板,所述水平板顶部的一侧固定安装有支撑板,所述支撑板的内部螺纹套装有螺栓,所述螺栓的一侧固定安装有固定板,所述箱体内腔的一侧固定安装有固定箱,所述箱体内腔的另一侧固定安装有原料盒,所述原料盒的一侧固定安装有喷头,所述喷头的一侧固定安装有调节装置,所述箱体的一侧固定安装有真空泵,所述真空泵顶部的一侧贯通连接有抽气管,所述箱体顶端的中部固定安装有升降机,所述升降机的底部固定安装有电源,所述电源的底部固定安装在有蒸发罩,所述圆轴的外部与L形板的内部活动套装。

优选的,所述调节装置包括套环,所述套环的一侧与喷头的一侧固定连接,所述套环的一侧开设有卡槽,所述套环的一侧活动套装有喷口,所述喷口一侧的顶部和底部均固定安装有卡扣,所述喷口的一侧活动套接有垫片,所述喷口的顶部固定安装有把手,所述套环和喷口的内部均开设有圆孔。

优选的,所述支撑板的数量为两个,两个所述支撑板以水平板的轴心为对称中心相互对称。

优选的,所述L形板的顶部与原料盒底部的一侧固定连接,所述L形板的一侧与固定箱一侧的底部固定连接。

优选的,所述蒸发罩侧面的宽度值小于原料盒和固定箱的水平距离值,所述蒸发罩侧面的宽度值大于待镀膜件的宽度值。

优选的,所述固定板的数量为两个,两个所述固定板之间固定连接有待镀膜件,两个所述固定板之间的待镀膜件的底部与水平板的顶部活动连接。

与现有技术对比,本实用新型具备以下有益效果:

1、该PVD真空电弧镀膜装置,通过卡槽和卡扣的配合使用,能够使喷头可以在套环的一侧旋转,通过套环、喷头、圆孔和把手之间的配合设置,能够有效调节原料喷出量,达到了控制镀膜量的效果,解决了不同待镀膜件的镀膜量不同的问题。

2、该PVD真空电弧镀膜装置,通过螺栓、支撑板、水平板和固定板的配合使用,能够使待镀膜件固定在水平板上,同时通过电动机、圆轴和水平板之间的配合设置,能够有效带动水平板旋转,同时带动水平板上的待镀膜件的旋转,达到了待镀膜件的各个面充分镀膜的效果。

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