[实用新型]一种电磁屏蔽膜

说明书

本实用新型公开了一种电磁屏蔽膜，包括设置于透明基底上的透明导电层，UV压印在导电层表面的凹槽结构层，导电材料填充于凹槽内形成的导电网栅。通过上述方式，本实用新型电磁屏蔽膜，透光率高，电磁屏蔽效能高。

技术领域

本实用新型涉及电磁屏蔽膜领域，特别是涉及一种电磁屏蔽膜。

背景技术

现有技术中，常用的电磁屏蔽视窗用透明导电材料主要有：1.镀金属膜方式，透光率较好，但屏蔽效果很低；2.金属丝网方式，屏蔽效果较好，但透光度差，难以满足使用要求。

中国发明专利CN201010533228.9“一种透明导电膜及其制作方法”描述了一种基于纳米压印和纳米涂布的方法实现的透明导电膜，通过纳米压印形成沟槽，在沟槽中填充纳米导电材料，再烧结形成高性能导电膜，可用于制作电磁屏蔽膜，但导电银呈黄色，光反射严重影响视觉外观，并且裸露于空气久会产生色变。

实用新型内容

本实用新型主要解决的技术问题是提供一种电磁屏蔽膜，透光率高，电磁屏蔽效能高。

为解决上述技术问题，本实用新型采用的一个技术方案是：提供一种电磁屏蔽膜，包括：透明基底和设置在透明基底上的导电层；所述导电层表面上设有一层凹槽结构层，凹槽结构层通过UV压印形成；所述凹槽结构层表面设有网格状凹槽，网格状凹槽内填充有导电材料形成导电网栅。

进一步，所述导电网栅厚度1～10μm，宽度1～50μm，导电网栅的图形为正六边形、菱形或正方形。

进一步，所述导电材料的材质为银或铜。

进一步，所述导电层材质为ITO或银纳米线或石墨烯，导电层厚度为1～ 100nm。

进一步，所述透明基底为聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯或聚甲基丙烯酸甲酯。

进一步，所述凹槽结构层材质为UV固化胶。

本实用新型的有益效果是：本实用新型透光率高，电磁屏蔽效能高。

附图说明

图1是本实用新型一种电磁屏蔽膜一较佳实施例的剖视结构示意图。

附图中各部件的标记如下：1、透明基底；2、导电层；3、凹槽结构层；4、导电网栅。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的较佳实施例进行详细阐述，以使本实用新型的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本实用新型的保护范围做出更为清楚明确的界定。

请参阅图1，本实用新型实施例包括：

一种电磁屏蔽膜，包括：透明基底1和设置在透明基底上的导电层2，透明基底为聚对苯二甲酸乙二醇酯，导电层材质为ITO，导电层厚度为50nm；所述导电层表面上设有一层凹槽结构层3，凹槽结构层材质为UV固化胶，凹槽结构层3通过UV压印形成；所述凹槽结构层3表面分布有网格状凹槽，网格状凹槽内填充有导电材料形成导电网栅4，导电材料的材质为铜，导电网栅厚度5μ m，宽度10μm，导电网栅的图形为正六边形、菱形或正方形。本实用新型透光率高，电磁屏蔽效能高。

以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。