[实用新型]一种双台面雕刻机

说明书

本实用新型涉及一种双台面雕刻机，包括机架、装设于机架的驱动模组、与驱动模组连接的雕刻机构和用于承载待加工型材的雕刻平台，驱动模组可带动雕刻机构沿X/Y/Z方向移动，还包括外罩和废料箱，雕刻平台主要由至少两条间隔且平行布置的承载支架构成，至少两条承载支架与机架之间形成中空区域，废料箱设于雕刻平台下方，外罩上方开设有进风口和出风口，进风口和出风口分别连通至除尘装置，本实用新型的外罩能够防止雕刻过程中产生的烟尘飞扬，通过进风口和出风口能够有效过滤带有烟尘的空气，同时雕刻过程中，大块的废料可从雕刻平台的支架之间或支架与机架之间掉落至废料箱进行收集，设计更为合理，利于提高除尘和集废料效率，除尘效果更佳。

技术领域

本实用新型涉及雕刻机加工技术领域，特别是涉及一种双台面雕刻机。

背景技术

随着社会的发展，智能数控雕刻机已取代人工雕刻，应用非常广泛，现有的多数雕刻机采用开放式雕刻，在雕刻时不能很好的起到防尘作用，对操作人员的健康以及周围环境带来很大影响。中国实用新型专利说明书CN206841034U公开一种CNC三轴雕刻机，其包括加工平台、横向驱动组件、支架、纵向驱动组件、滑座、升降驱动组件及雕刻头，但其在雕刻过程中，防尘效果不佳，大量的粉尘不仅影响生产车间的环境，而且会影响雕刻精度。

实用新型内容

为解决上述问题，本实用新型提供一种双台面雕刻机，其设计合理，除尘效果佳。

为解决上述目的，本实用新型采用的如下技术方案。

一种双台面雕刻机，包括机架、装设于机架的驱动模组、与驱动模组连接的雕刻机构和用于承载待加工型材的雕刻平台，驱动模组可带动雕刻机构沿X/Y/Z方向移动，还包括外罩和废料箱，雕刻平台主要由至少两条间隔且平行布置的承载支架构成，至少两条承载支架与机架之间形成中空区域，废料箱设于雕刻平台下方，外罩上方开设有进风口和出风口，进风口和出风口分别连通至除尘装置。

作为本实用新型的进一步方案，所述机架装设有集尘框，集尘框围设于雕刻平台，集尘框与废料箱连通，集尘框的内径从上至下逐渐减小。

作为本实用新型的进一步方案，雕刻平台设有两组，两组雕刻平台下方分别装设有所述废料箱。

作为本实用新型的进一步方案，外罩设有活动门，所述活动门上嵌设有若干个亚克力透明窗。

作为本实用新型的进一步方案，外罩两侧分别嵌设有若干个亚克力透明窗。

本实用新型的有益效果如下：

在实际应用过程中，外罩能够防止雕刻过程中产生的烟尘飞扬，通过进风口和出风口能够有效过滤带有烟尘的空气，同时雕刻过程中，大块的废料可从雕刻平台的支架之间或支架与机架之间掉落至废料箱进行收集，设计更为合理，利于提高除尘和集废料效率，除尘效果更佳。

附图说明

图1为本实用新型的立体结构示意图；

图2为本实用新型的打开活动门的结构示意图。

附图标记说明：1.机架、2.驱动模组、3.雕刻机构、4.雕刻平台、41.承载支架、5.外罩、51.活动门、52.亚克力透明窗、53.进风口、54.出风口、6.废料箱、7.集尘框、8.中空区域。

具体实施方式

下面将结合附图对本实用新型作进一步的说明。