[实用新型]一种清洗沉积在掩膜盖板表面的ITO薄膜的装置

权利要求书

1.一种清洗沉积在掩膜盖板表面的ITO薄膜的装置，其特征在于：包括酸洗腔室、喷淋腔室和风淋烘干腔室；所述风淋烘干腔室包括风淋腔室和烘干腔室；所述酸洗腔室、喷淋腔室、风淋腔室和烘干腔室依次连接；所述酸洗腔室上设有储酸装置；所述喷淋腔室上设有去离子水储存装置；所述风淋腔室上设有高压空气存储装置；所述烘干腔室上设有加热装置，器具依次通过酸洗腔室、喷淋腔室、风淋腔室和烘干腔室后除去ITO薄膜。

2.根据权利要求1所述的一种清洗沉积在掩膜盖板表面的ITO薄膜的装置，其特征在于：所述酸洗腔室、喷淋腔室和风淋腔室还分别连有废液回收装置，所述烘干腔室还连有真空泵组。

3.根据权利要求2所述的一种清洗沉积在掩膜盖板表面的ITO薄膜的装置，其特征在于：所述酸洗腔室内设有雾化装置和第一传送带；所述雾化装置包括耐酸管道和设于耐酸管道上的若干个雾化出口，每个雾化出口上设有雾化器；所述管道与储酸装置相通；所述第一传送带设于雾化器的下方；所述第一传送带下方设有第一废液引流机构；所述第一废液引流机构为具有第一斜面的三角形结构；所述废液回收装置包括第一废液回收室；第一斜面的低端与第一废液回收室连通。

4.根据权利要求2所述的一种清洗沉积在掩膜盖板表面的ITO薄膜的装置，其特征在于：所述喷淋腔室内设有通水管道和第二传送带；所述通水管道与去离子水储存装置连接；所述通水管道上设有若干个出水口，每个出水口上设有出水喷头；所述第二传送带设于出水喷头的下方，第二传送带的下方设有第二废液引流机构；所述第二废液引流机构为具有第二斜面的三角形结构；所述废液回收装置还包括第二废液回收室；第二斜面的低端与第二废液回收室连通；第二传送带的一端伸入第一传送带一端的下方。

5.根据权利要求4所述的一种清洗沉积在掩膜盖板表面的ITO薄膜的装置，其特征在于：风淋腔室内设有通风管道；通风管道与高压空气存储装置连通；通风管道上设有若干个压缩空气出口；上下两侧的通风管道之间设有第三传送带；所述第三传送带的一端伸入第二传送带另一端的下方；第三传送带的一侧上设有若干个掩膜盖固定装置，第三传送带的另一侧的通风管道的下方设有第三废液引流机构；所述第三废液引流机构为具有第三斜面的三角形结构；所述废液回收装置还包括第三废液回收室；第三斜面的低端与第三废液回收室连通，第三传送带的一端伸入第二传送带的另一端的下方。

6.根据权利要求5所述的一种清洗沉积在掩膜盖板表面的ITO薄膜的装置，其特征在于：所述烘干腔室内设有第四传送带和若干个加热灯管；每个加热灯管分别与加热装置连接；第四传送带设于加热灯管的下方；第四传送带的一端伸入第三传送带的另一端的下方，所述烘干腔室的下方连有用于对烘干腔室抽真空的真空泵组。

7.根据权利要求1所述的一种清洗沉积在掩膜盖板表面的ITO薄膜的装置，其特征在于：还包括混合废液引流机构和混合废液回收装置；所述废液引流机构为具有斜面的三角形结构；所述酸洗腔室、喷淋腔室和风淋烘干腔室分别通过管道与废液引流机构的高端连通；废液引流机构的低端与混合废液回收装置连通。

8.根据权利要求1-7任意一项所述的一种清洗沉积在掩膜盖板表面的ITO薄膜的装置，其特征在于：所述储酸装置中的酸为硝酸，压缩空气出口与水平方向的夹角为15°-60°。