[实用新型]一种载板

说明书

本实用新型涉及载板技术领域，尤其涉及一种载板。该载板包括具有N个侧面的承载区域和N个边缘区域，所述N个边缘区域分别对应设置在所述承载区域的N个侧面，所述N个边缘区域中的X个边缘区域与所述承载区域弹性连接，所述N为大于等于2的正整数，X为大于等于1小于等于N的正整数。本实用新型提供的载板，能够在保证基片的镀膜均匀性的前提下，有效减少载板的边缘区域造成的镀膜浪费，同时有效减少载板的边缘区域造成的设备空间的浪费。

技术领域

本实用新型涉及半导体与太阳能技术领域，尤其涉及一种载板。

背景技术

物理气相沉积(PhysicalVaporDeposition，简称PVD)是指利用物理过程实现物质转移，将原子或分子由源转移到基材表面上的过程。它的作用是可以使某些有特殊性能(例如强度高、耐磨性、散热性、耐腐性等)的微粒喷涂在性能较低的母体上，使得母体具有更好的性能。

在线式PVD是多个接续的载板进入工艺腔室，一边前进一边镀膜，整个工艺过程是连续的。由于受空间气流的影响，载板上不同位置的基片，其均匀性会有差别。在靠近载板边缘的位置，由于外侧气流的影响，均匀性较差。为了实现较好的均匀性，通常会增大载板的边缘区域，让气流的影响较小。

目前，现有的载板，在其边缘处会有无效的镀膜区域，造成浪费。这种情况对于在线式PVD尤其明显。在线式PVD中，由于载板是接续前进的，边缘区域必然会有大量的镀膜是浪费的，浪费原料和设备空间。但是如果减小载板边缘，对于工艺则有较大影响。对于在线式PVD，经常会通入单个载板，做工艺的调整。如果载板边缘减小，则其边缘区域的基片就会因为均匀性差而产生不良品。

实用新型内容

(一)要解决的技术问题

本实用新型的目的是提供一种载板，在保证基片的镀膜均匀性的前提下，减少载板边缘区域造成的镀膜腔室空间的浪费。

(二)技术方案

为了解决上述技术问题，本实用新型提供了一种载板，包括具有N 个侧面的承载区域和N个边缘区域，所述N个边缘区域分别对应设置在所述承载区域的N个侧面，所述N个边缘区域中的X个边缘区域与所述承载区域弹性连接，所述N为大于等于2的正整数，X为大于等于1小于等于N的正整数。

当单个载板进入工艺腔体时，与所述承载区域进行弹性连接的所述边缘区域处于伸展状态。

当多个载板连续进入工艺腔体时，相邻的载板之间相互挤压使载板中弹性连接的边缘区域弹性收缩，从而减少载板边缘的无效镀膜区域，提高镀膜腔室的利用率。同时，由于多个载板相互串连接触时，相邻载板的边缘区域也将作为该载板的边缘区域，从而不会减少载板的边缘区域的面积。

当载板离开工艺区域后，需要单独传输时，载板之间不再挤压，则在弹力作用下就可以使载板上弹性连接的边缘区域恢复原状，从而达到载板正常需要的边缘区域的面积。

进一步地，所述承载区域包括相对设置的第一表面和第二表面，当N为4时，所述承载区域的侧面分别为连接所述第一表面和第二表面的第一侧面、第二侧面、第三侧面和第四侧面，所述第一侧面、第二侧面、第三侧面和第四侧面首尾相连。其中所述第一侧面和第三侧面相对设置，所述第一侧面和第三侧面尺寸相等。所述第二侧面和第四侧面相对设置，所述第二侧面和第四侧面尺寸相等。

通过将所述承载区域设置为六面体结构，不仅便于实现多个接续的载板依次接续的进入工艺腔室，而且便于实现所述边缘区域与所述承载区域之间的弹性连接。

进一步地，所述第一侧面设有能够收纳所述边缘区域的第一收纳腔，所述第一收纳腔与一个所述边缘区域相对应。

和/或，所述第三侧面设有能够收纳所述边缘区域的第二收纳腔，所述第二收纳腔与一个所述边缘区域相对应。