[实用新型]一种熔断器有效
申请号: | 201821699365.8 | 申请日: | 2018-10-19 |
公开(公告)号: | CN208738169U | 公开(公告)日: | 2019-04-12 |
发明(设计)人: | 陈锡庆;李向明;单小兵;杨永林 | 申请(专利权)人: | AEM科技(苏州)股份有限公司 |
主分类号: | H01H85/43 | 分类号: | H01H85/43;H01H85/08;H01H85/06;H01H69/02 |
代理公司: | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人: | 孙仿卫;冯尚杰 |
地址: | 215026 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 熔断体 熔断器 基材 本实用新型 灭弧材料 下绝缘层 功能层 氧化硅 绝缘层 一致性和完整性 低温共烧陶瓷 惰性树脂 密闭空穴 熔断特性 烧结过程 生产效率 端电极 缓冲层 磷酸酯 平整性 聚酯 磷酸 灭弧 气雾 匹配 收缩 变形 保证 | ||
1.一种熔断器,包括绝缘层及熔断体,所述绝缘层包括上绝缘层及下绝缘层,所述熔断体设置在所述上绝缘层与所述下绝缘层之间,所述绝缘层上设有与所述熔断体相电连接的端电极,其特征在于:所述熔断器还包括设置在所述熔断体与所述绝缘层之间的功能层,所述功能层包括基材及均匀或大致均匀地分布在所述基材中的灭弧材料,所述灭弧材料含有密闭空穴,所述基材包括低温共烧陶瓷粉、气雾氧化硅、氧化硅、惰性树脂、磷酸及磷酸酯聚酯。
2.根据权利要求1所述的熔断器,其特征在于,所述绝缘层还包括隔层,所述熔断器包括多个所述熔断体及多个所述功能层,每个所述熔断体的上方和/或下方设有所述功能层,所述隔层设置在相邻的两个所述熔断体之间。
3.根据权利要求1所述的熔断器,其特征在于,所述灭弧材料为中空玻璃微球、含有多个所述密闭空穴的玻璃体或含有多个所述密闭空穴的陶瓷的任意一种。
4.根据权利要求1所述的熔断器,其特征在于,所述灭弧材料的球径D50为10~80微米。
5.根据权利要求1-4任一所述的熔断器,其特征在于,所述功能层位于所述熔断体的上方和/或下方,所述功能层与所述熔断体接触。
6.根据权利要求1-4任一所述的熔断器,其特征在于,所述熔断器包括三层依次叠置的熔断体,每层所述熔断体的上方和/或下方设置有所述功能层。
7.根据权利要求1-4任一所述的熔断器,其特征在于,所述熔断器包括五层依次叠置的熔断体,每层所述熔断体的上方和/或下方设置有所述功能层。
8.根据权利要求1-4任一所述的熔断器,其特征在于,单个所述功能层包括多个彼此分离的次级功能层,所述次级功能层位于同一平面内,每个所述次级功能层与相应的所述熔断体接触。
9.根据权利要求8所述的熔断器,其特征在于,在同一平面内,所述次级功能层的数量为3。
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