[实用新型]一种多晶硅炉盘干式清洗机

说明书

本实用新型公开了一种多晶硅炉盘干式清洗机，包括干冰机组，与干冰机组相连设有干冰供料系统、防爆除尘系统、防爆电控系统，构成一个供冰组合体，此组合体与防爆清洗系统管道相连；所述防爆清洗系统是在外罩内设有清洗装置，所述清洗装置，是在一支架上设有旋转伺服机构，伺服机构下设有直线模块，直线模块下设有清洗机头，清洗机头下设有喷头和喷嘴，喷头上连接有喷头升降气缸。本实用新型创造性地将干冰清洗应用于多晶硅炉盘，它安全高效、干净快捷，且不会产生二次污染。将干冰机组、干冰供料系统、防爆除尘系统、防爆电控系统进行进一步整合成组合体，放置在可独立移动的平板车上，使用方便灵活。

技术领域

本实用新型涉及一种多晶硅炉盘干式清洗机，用于对多晶硅还原炉盘面及电极的清理。属于机械设备领域。

背景技术

多晶硅还原炉在生成多晶硅棒的过程中，会在电极和炉盘上逐渐形成坚硬的垢层。它们的存在会导致绝缘等级降低甚至破坏、反射面反射效率降低等问题，必须及时清理。目前主要靠人工手动清理，由于作业时炉盘会有各种有毒有害气体溢出，给清理人员带来健康和安全风险。同时由于生产车间防爆等级很高，为消除隐患，一般电动工具很难排上用场，因此坚硬的垢层很难找到快速、有效的方法清理，清理时间至少都在2-3小时以上，而且清理并不彻底，时间长了甚至会导致绝缘破坏，危及生产安全；清理后的粉尘又会污染十万级净化车间。

发明内容

为了克服现有技术的不足，本实用新型提供一种多晶硅炉盘干式清洗机，它安全高效、干净快捷，且不会产生二次污染。

为了达到上述目的，本实用新型的技术方案是，一种多晶硅炉盘干式清洗机，包括干冰机组，其特征是：与干冰机组相连设有干冰供料系统、防爆除尘系统、防爆电控系统，构成一个供冰组合体，此组合体与防爆清洗系统管道相连；所述防爆清洗系统是在外罩内设有清洗装置，所述清洗装置，是在一支架上设有旋转伺服机构，伺服机构下设有直线模块，直线模块下设有清洗机头，清洗机头下设有喷头和喷嘴，喷头上连接有喷头升降气缸。

所述供冰组合体放置在可独立移动的平板车上。

所述的清洗装置设有1-4个清洗机头、1-8个喷嘴。

所述的喷嘴包括直线喷嘴和弯头喷嘴，所述的弯头喷嘴为＞0-90°。

本实用新型创造性地将干冰清洗应用于多晶硅炉盘，它安全高效、干净快捷，且不会产生二次污染。将干冰机组、干冰供料系统、防爆除尘系统、防爆电控系统进行进一步整合成组合体，放置在可独立移动的平板车上，使用方便灵活。

附图说明

图1为本实用新型主视示意图。

图2为本实用新型俯视示意图。

图3为本实用新型清洗装置示意图。

图4为本实用新型清洗机头立体示意图。

图5为本实用新型清洗机头示意图。

图中，1干冰机组，2干冰供料系统，3防爆除尘系统，4防爆电控系统，5防爆清洗系统，6清洗装置、61支架、62旋转伺服机构，63直线模块、64清洗机头，65、喷头升降气缸、66喷嘴，7平板车。

具体实施方式

以下结合附图和实施例，对本实用新型进一步说明。

如图1至图5所示，本实用新型公开了一种多晶硅炉盘干式清洗机，包括干冰机组1，与干冰机组相连设有干冰供料系统2、防爆除尘系统3、防爆电控系统4，构成一个供冰组合体，此组合体与防爆清洗系统5管道相连；所述防爆清洗系统是在外罩内设有清洗装置6，所述清洗装置，是在一支架61上设有旋转伺服机构62，伺服机构下设有直线模块63，直线模块下设有清洗机头64，清洗机头下设有喷头和喷嘴66，喷头上连接有喷头升降气缸65。