[实用新型]一种两相流抛光加工中磨粒的PIV观测装置

权利要求书

1.一种两相流抛光加工中磨粒的PIV观测装置，其特征在于包括框架体（1）以及设置在框架体（1）上的CCD相机位置调节组件、激光器位置调节组件和抛光组件，CCD相机位置调节组件包括CCD相机托板（4）、与CCD相机托板（4）固定连接的CCD相机（3）、驱动CCD相机托板（4）左右移动的第一驱动机构和驱动CCD相机托板（4）上下移动的第二驱动机构，激光器位置调节组件包括激光器托板（11）、与激光器托板（11）固定连接的激光器（22）和驱动激光器托板（11）前后移动的第三驱动机构。

2.根据权利要求1所述的一种两相流抛光加工中磨粒的PIV观测装置，其特征在于所述抛光组件包括设置在框架体（1）上的透明支撑板（5）、设置在透明支撑板（5）上的抛光液容器（6）、设置在框架体（1）上的抛光支架（8）、固定连接在抛光支架（8）上的第一电机（9）以及与第一电机（9）的主轴通过第二联轴器（24）配合连接的抛光盘（7），CCD相机（3）的镜头、抛光液容器（6）和抛光盘（7）三者的中心重合。

3.根据权利要求1或2所述的一种两相流抛光加工中磨粒的PIV观测装置，其特征在于所述第一驱动机构为与框架体（1）旋转连接的第一丝杠（15），第一丝杠（15）水平设置且与CCD相机托板（4）螺纹连接，第一丝杠（15）的一端设置左右移动微调旋钮（16）。

4.根据权利要求3所述的一种两相流抛光加工中磨粒的PIV观测装置，其特征在于所述第二驱动机构为与框架体（1）旋转连接的第二丝杠（17），第二丝杠（17）竖直设置且与CCD相机托板（4）螺纹连接，第二丝杠（17）的一端设置上下移动微调旋钮（18）。

5.根据权利要求1或2所述的一种两相流抛光加工中磨粒的PIV观测装置，其特征在于所述第三驱动机构为与框架体（1）旋转连接的第三丝杠（12），第三丝杠（12）水平设置且与激光器托板（11）螺纹连接，第三丝杠（12）的一端设置前后移动微调旋钮（13）。

6.根据权利要求5所述的一种两相流抛光加工中磨粒的PIV观测装置，其特征在于所述激光器位置调节组件还包括设置在激光器（22）与激光器托板（11）之间的升降机构，升降机构包括第二电机（20）、第四丝杠（23）、折叠板组（21）、激光器支撑板（25），第二电机（20）固定连接在激光器托板（11）上并与第四丝杠（23）通过第一联轴器配合连接，折叠板组（21）包括两个铰接成剪刀形的折叠板，其中一个折叠板的下端与第四丝杠（23）螺纹连接，折叠板组（21）的上端与激光器支撑板（25）铰接，激光器（22）固定连接在激光器支撑板（25）上。

7.根据权利要求1或2所述的一种两相流抛光加工中磨粒的PIV观测装置，其特征在于所述框架体（1）的一侧设置用于支撑激光器位置调节组件的框架体支架（100）。

8.根据权利要求1或2所述的一种两相流抛光加工中磨粒的PIV观测装置，其特征在于所述框架体（1）的底部设置可调垫脚（19）。