[实用新型]一种高精度原料配比的表面活性剂反应釜

权利要求书

1.一种高精度原料配比的表面活性剂反应釜，包括清理装置与连接装置，其特征在于：所述清理装置包括反应釜主体(28)，所述反应釜主体(28)内部开设有一体式结构的固定环槽(3)，所述固定环槽(3)一侧相对于反应釜主体(28)内部开设有连接板槽(7)，所述固定环槽(3)内部固定有固定环(8)，所述固定环(8)内侧开设有一体式结构滑槽(13)，所述滑槽(13)两侧相对于固定环(8)内部开设有卡槽(14)，所述滑槽(13)一端相对于固定环(8)内部开设有固定槽(10)，所述固定槽(10)内部开设有滑块槽(12)，所述滑块槽(12)内部固定有磁块(11)，所述滑块槽(12)内部连接有连接板(9)，所述连接板(9)一侧固定有滑块(15)，所述滑块(15)两端固定有卡块(16)，且所述连接板(9)一侧内部固定有连接弹簧(17)，所述连接弹簧(17)背离连接板(9)的一端连接有毛刷(18)。

2.根据权利要求1所述的一种高精度原料配比的表面活性剂反应釜，其特征在于：所述连接装置包括连接块(5)，所述连接块(5)两端开设有一体式结构的连接槽(20)，所述连接槽(20)内部固定有连接柱(19)，所述连接柱(19)两侧开设有凹槽(21)，且所述连接柱(19)底部表面开设有限位槽(23)，所述连接槽(20)一侧相对于连接块(5)内部开设有环槽(22)，所述连接块(5)一侧固定有桨叶(4)，所述桨叶(4)一端固定有固定板(24)，所述固定板(24)两侧固定有连杆(26)，所述连杆(26)一端固定有限位块(27)，所述限位块(27)背离连杆(26)的一端固定有弹簧块(25)。

3.根据权利要求1所述的一种高精度原料配比的表面活性剂反应釜，其特征在于：所述反应釜主体(28)顶部固定有电机(1)，所述电机(1)一侧相对于反应釜主体(28)顶部开设有进料口(2)，所述反应釜主体(28)底部固定有出料口(6)。

4.根据权利要求1所述的一种高精度原料配比的表面活性剂反应釜，其特征在于：所述滑块(15)、卡块(16)分别于滑槽(13)、卡槽(14)相适配，且所述滑块(15)、卡块(16)与滑块槽(12)相适配，所述滑块(15)为磁性结构。

5.根据权利要求2所述的一种高精度原料配比的表面活性剂反应釜，其特征在于：所述限位块(27)与凹槽(21)、限位槽(23)相适配，且所述凹槽(21)、限位槽(23)分别处于连接柱(19)两侧，且位置相互对应。