[实用新型]一种新型抗电磁辐射云台结构有效

专利信息
申请号: 201821635232.4 申请日: 2018-10-09
公开(公告)号: CN209262569U 公开(公告)日: 2019-08-16
发明(设计)人: 蔡鹏飞;何山;仲米雪;刘贺松 申请(专利权)人: 航天长屏科技有限公司
主分类号: F16M11/06 分类号: F16M11/06;F16M11/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100192 北京市海淀区*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 俯仰 抗电磁辐射 驱动蜗杆 云台 传动轴系 俯仰运动 俯仰轴 本实用新型 导电密封圈 强电磁辐射 传动涡轮 方位调整 俯仰轴系 航空插头 驱动电机 云台结构 支撑轴承 组合整体 大支座 金属腔 支撑架 大轴 滤波 上盖 下盖 小轴 压盖 抵抗 镜头 监控 保证
【说明书】:

实用新型公开了一种新型抗电磁辐射云台,包括俯仰运动结构和方位调整结构两部分,俯仰运动结构主要包括镜头支撑架、俯仰传动轴系、驱动蜗杆轴组合、俯仰传动轴系包括俯仰小轴、俯仰支撑轴承、俯仰轴支座、传动涡轮、俯仰大轴。驱动蜗杆组合整体安装在由整体大支座及其上盖和下盖、导电密封圈上、俯仰轴压盖、俯仰轴系、滤波航空插头组成金属腔内,很好的抵抗了强电磁辐射的干扰,保证驱动蜗杆组合中驱动电机正常工作,采用该新型抗电磁辐射云台,在器件EMC测试中可以有效的增大监控范围,避免传统云台实验中损坏等问题出现。

技术领域

本实用新型涉及一种云台结构,尤其涉及一种新型抗电磁辐射云台结构。

背景技术

在EMC暗室进行产品EMC性能测试时,需要使用监控系统实时掌握测试情况。使用云台可有效扩大监控范围,更有利于测试的进行。而 EMC测试时常伴随有强电磁辐射存在,普通电控云台在强电磁环境下,会有运动失控、驱动损坏的风险,导致云台无法正常工作。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种新型抗电磁辐射云台结构,具有防护强电磁辐射场的功能,解决现有技术存在的缺憾。

本实用新型采用如下技术方案实现:

一种新型抗电磁辐射云台结构,结构中包括一个整体大支座,所述整体大支座设置有整体大支座上盖和整体大支座下盖,整体大支座的内部设置有一个中间搁板,整体大支座还具有一个上开口和一个下开口,其特征在于,在所述中间搁板上安装有俯仰传动轴系和驱动蜗杆轴系,俯仰传动轴系具有一个上端开口的俯仰轴支座,所述俯仰轴支座的开口处安装有一个俯仰小轴,所述俯仰小轴的一端通过俯仰支撑轴承与俯仰轴支座固定连接,另一端设置有传动涡轮和俯仰大轴,所述俯仰大轴伸出整体大支座的侧壁外,俯仰大轴的作用是通过开口端与一个镜头支撑架固定连接,所述俯仰大轴的外部套装有一个俯仰轴压盖,所述俯仰轴压盖与俯仰大轴之间设置有一个小导电密封圈,在整体大支座的上开口处,整体大支座上盖通过上导电密封圈紧固密封,在整体大支座的下开口处,整体大支座下盖通过下导电密封圈紧固密封,所述驱动蜗杆轴系具有一个组合支座,所述组合支座上安装有驱动电机和蜗杆轴,所述驱动电机的一端装配有主动齿轮,所述蜗杆轴的一端安装有被动齿轮,主动齿轮与被动齿轮相互啮合。

进一步的,在所述整体大支座的下方设置有一个方位支撑底座,所述方位支撑底座具有中心开孔,中心开孔的尺寸与所述整体大支座下盖的一个凸台外径相匹配,大支座下盖中心的凸台与方位支撑底座通过心中开孔同心配合。

进一步的,在方位支撑底座的侧壁开有紧固螺纹孔,紧固螺钉安装在紧固螺纹孔内,用于固定整体大支座下盖。

本实用新型的有益技术效果是:驱动蜗杆组合整体安装在由整体大支座及其上盖和下盖、导电密封圈上、俯仰轴压盖、俯仰轴系、滤波航空插头组成金属腔内,很好的抵抗了强电磁辐射的干扰,保证驱动蜗杆组合中驱动电机正常工作,采用该新型抗电磁辐射云台,在器件EMC测试中可以有效的增大监控范围,避免传统云台实验中损坏等问题出现。

附图说明

图1是本实用新型抗电磁辐射云台的3D外形图。

图2是本实用新型抗电磁辐射云台内部结构的剖视图。

图3是本实用新型抗电磁辐射云台俯仰轴系的3D结构图。

图4是本实用新型抗电磁辐射的驱动蜗杆轴组合3D结构图。

具体实施方式

通过下面对实施例的描述,将更加有助于公众理解本实用新型,但不能也不应当将申请人所给出的具体的实施例视为对本实用新型技术方案的限制,任何对部件或技术特征的定义进行改变和/或对整体结构作形式的而非实质的变换都应视为本实用新型的技术方案所限定的保护范围。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于航天长屏科技有限公司,未经航天长屏科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201821635232.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top