[实用新型]一种匀胶显影机的供液装置

说明书

本实用新型公开了一种匀胶显影机的供液装置，包括供液箱，供液装置还包括两个缓存罐，缓存罐均通过供液管路与供液箱的进液口连通，供液管路包括两段主进液管段和两段分出液管段，两个主进液管段伸入到对应缓存罐底部，分出液管段的另一端分别与对应的进液口连通；缓存罐的顶部设置有进气口，该进气口的下端处于缓存罐的液面的上方，进气口与供液压缩空气系统连通，供液箱内的上部和下部分别设置有上液位传感器和下液位传感器，上液位传感器、下液位传感器、电磁阀、供液压缩空气系统的动力源均与控制器电连接。该供液装置在加液时不会带入杂质，同时两个缓存罐相互切换使用可延长补液的时间。

技术领域

本实用新型涉及一种供液装置，尤其涉及一种匀胶显影机的供液装置。

背景技术

在半导体行业中，光刻和显影是两个重要的步骤，显影过程在显影机上完成，显影过程就是将曝光后的光刻胶中与紫外光发生化学反应的部分取出或保留下来的过程，显影的基本过程是：对准曝光(光刻机)→曝光后烘→显影→坚膜→显影检测。而匀胶显影机需要对曝光后烘干的硅片降温到23℃左右，而目前的匀胶显影机先通过多个冷板对硅片冷却，冷却后的硅片才通过显影液显影。

而目前的匀胶显影机的显影液是储存在设备内部的供液箱中，显影液在工作时持续使用，一般在供液箱内设置了液位传感器用来检测供液箱内的显影液量，当量不够时，需要打开设备内的供液箱的箱盖，然后手工添加，或者是通过输送泵将外置的缓存罐内的的显影液输送给供液箱内部。

然利用输送泵进行输送可能引入一些杂质，这样影响了硅片的显影效果。另外缓存罐在补液时也不方便，需要频繁补液。

另外，由于气候的变化，因此显影液的温度可能有波动，而硅片在显影时需要显影液与硅片的温度保持基本一致，因此，当天气寒冷时，显影液由于相对长的一段时间处于缓存罐中，这样温度会降低，因此也会影响显影的效果。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是：提供一种匀胶显影机的供液装置，该供液装置在加液时不会带入杂质，同时两个缓存罐相互切换使用可延长补液的时间。

为解决上述技术问题，本实用新型的技术方案是：一种匀胶显影机的供液装置，包括设置于匀胶显影机中的供液箱，所述供液箱上设置有进液口，所述供液装置还包括两个缓存罐，每个缓存罐均通过供液管路与供液箱的进液口连通，所述供液管路包括两段主进液管段和两段分出液管段，两个主进液管段一一对应伸入到对应缓存罐底部，每段分出液管段的一端均与两段主进液管段连通，分出液管段的另一端分别与对应的进液口连通；所述两段主进液管段上分别设置有电磁阀，所述缓存罐的顶部设置有进气口，该进气口的下端处于缓存罐的液面的上方，所述进气口与供液压缩空气系统连通，所述供液箱内的上部和下部分别设置有上液位传感器和下液位传感器，上液位传感器、下液位传感器、电磁阀、供液压缩空气系统的动力源均与控制器电连接。

作为一种优选的方案，所述供液压缩空气系统的动力源为供液压缩机，该供液压缩空气系统包括惰性气体存储罐，惰性气体存储罐的出气口和缓存罐的进气口之间设置有供液压缩空气供入管道连通，该供液压缩机设置于供液压缩空气供入管道上。

作为一种优选的方案，所述缓存罐的顶部设置有安全泄压阀。

作为一种优选的方案，所述供液装置还包括补液装置，该补液装置用于向缓存罐内补充显影液。

作为一种优选的方案，所述补液装置包括储液罐，该储液罐内储存有显影液，该储液罐和两个缓存罐之间设置有补液管路，该补液管路包括补液主管段和两个补液分管段，补液主管段伸入到储液罐的底部，两个补液分管段分别于缓存罐连通，该补液分管段上均设置有电磁阀，所述储液罐的上部设置有进气口，该进气口与补液压缩空气系统连通。

作为一种优选的方案，所述补液压缩空气系统包括补液压缩机和惰性气体存储罐，惰性气体存储罐的出气口和储液罐上部的进气口之间设置有补液压缩空气供入管道连通，该补液压缩机设置于补液压缩空气供入管道上。