[实用新型]用于工业过程的现场装置组件有效
申请号: | 201821587692.4 | 申请日: | 2018-09-27 |
公开(公告)号: | CN209278474U | 公开(公告)日: | 2019-08-20 |
发明(设计)人: | 安德鲁·约翰·瓦格纳;特雷弗·托马斯·施特罗特;莎拉·艾伦·拉克鲁瓦 | 申请(专利权)人: | 罗斯蒙特公司 |
主分类号: | F16J15/06 | 分类号: | F16J15/06;F16B43/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 汪洋 |
地址: | 美国明*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 垫圈 现场装置 基部 壳体 工业过程 开口 法兰 电绝缘系统 第一表面 第一法兰 基部界面 密封 压力传感器 第二表面 界面接合 介电材料 开口对准 组件包括 接合 电绝缘 源部件 | ||
用于工业过程的现场装置组件包括工业过程现场装置、法兰以及密封电绝缘系统。现场装置包括压力传感器和包含有源部件的壳体。壳体包括具有基部界面的基部,基部界面包括第一基部过程开口。法兰附接到壳体的基部上,并包括具有第一法兰过程开口的共面界面。密封电绝缘系统包括垫圈,垫圈包括介电材料。垫圈中的第一过程开口与第一基部过程开口和第一法兰过程开口对准。垫圈的第一表面与基部界面接合,并且垫圈的与第一表面相反的第二表面与共面界面接合。垫圈使现场装置的壳体与法兰电绝缘。
技术领域
本公开的实施例涉及用于工业设备的工业过程控制系统。更具体地,本公开的实施例涉及密封和电绝缘现场装置的界面,例如现场装置和歧管之间的界面。
背景技术
在工业环境中,控制系统用于监控和控制工业和化学过程的库存等。通常,控制系统使用工业过程现场装置来执行这些功能,工业过程现场装置分布在工业过程中的关键位置并通过过程控制回路联接到控制系统中的控制电路。术语“现场装置”是指在分布式控制或过程监控系统中执行功能的任何装置,包括当前已知或尚未知道的用于工业过程的测量、控制和/或监控的所有装置。
典型的现场装置包括使现场装置能够执行传统的现场装置任务的装置电路,例如使用一个或多个传感器的过程参数监控和测量,和/或使用一个或多个控制装置的过程控制操作。示例性传感器包括压力传感器、液位传感器、温度传感器和工业过程中使用的其他传感器。示例性控制装置包括致动器、螺线管、阀和其他控制装置。
现场装置的装置电路还可以包括控制器,例如,该控制器用于控制传感器和/或控制装置,并且通过过程控制回路(例如4-20mA过程控制回路) 与过程控制系统或其他电路通信。在一些设备中,过程控制回路用于向现场装置输送经调节的电流和/或电压,以便为现场装置供电。过程控制回路还可以携带数据,例如对应于感测的过程参数的过程参数值。该数据可以作为模拟信号或数字信号通过过程控制回路传送。
阴极保护是在许多工业应用中用于保护金属结构(例如管道和槽)免受腐蚀的技术。例如,大型管道结构可以使用外加电流阴极保护系统。这种类型的阴极保护需要连接到管道的任何电气仪器与某种类型的介电材料电绝缘。
实用新型内容
本公开的实施例涉及包括密封电绝缘系统的现场装置组件,以及使用该系统密封和电绝缘工业过程现场装置的方法。现场装置组件的一些实施例包括工业过程现场装置、法兰以及密封电绝缘系统。现场装置包括压力传感器和包含有源部件的壳体。壳体包括具有基部界面的基部,基部界面包括第一基部过程开口。法兰附接到壳体的基部上,并包括具有第一法兰过程开口的共面界面。密封电绝缘系统包括垫圈,垫圈包括介电材料。垫圈中的第一过程开口与第一基部过程开口和第一法兰过程开口对准。垫圈的第一表面与基部界面接合,并且垫圈的与第一表面相反的第二表面与共面界面接合。垫圈使现场装置的壳体与法兰电绝缘。
在该方法的一些实施例中,围绕第一法兰过程开口的共面界面与第一环形突起接合。O形环与基部界面接合以围绕第一基部过程开口。现场装置使用垫圈与法兰电绝缘。形成第一密封通道包括在基部界面和法兰界面之间压缩O形环以及垫圈,第一密封通道在共面界面和基部界面之间并通过第一法兰过程开口、第一垫圈过程开口、O形环和第一基部过程开口。
本实用新型内容被提供以简化形式介绍在下文的具体实施方式中被进一步描述的概念的选择。该实用新型内容不旨在识别要求保护的主题的关键特征或本质特征,也不旨在用作确定要求保护的主题的范围的辅助手段。要求保护的主题不受限于解决在背景技术中指出的任何缺点或所有缺点的实现方式。
附图说明
图1A-C分别示出了根据现有技术的示例性工业过程控制系统的简化图、从过程界面分解的现场装置组件的等距视图、以及安装到过程界面的现场装置组件的等距视图。
图2是根据本公开的实施例的用于工业过程的示例性现场装置组件的侧视图。
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