[实用新型]料理机

说明书

本公开是关于一种料理机，所述料理机包括：杯组件、刀具组件和加热组件。通过为料理机加热组件的线圈支架设置至少两个容纳部，并使线圈对应的收容于容纳部内，使得至少两个容纳部内的线圈包含的子线圈的层数不等。通过在线圈支架不同区域中的容纳部中组装具备适宜层数的子线圈，调整了位于线圈支架不同区域的线圈与位于其上方的导磁盘配合所产生的热量，因此提升了料理机的加热均匀性。

技术领域

本公开涉及料理机技术领域，尤其涉及料理机。

背景技术

在相关技术中，例如破壁机等具备加热功能的料理机通常包含用于加热的线圈，线圈设置在料理机杯体的底部，以对杯体内的食物进行加热处理。然而，由于线圈不同区域产生磁力线的密集程度不同，导致线圈不同区域的加热效果不同，影响了食物的受热均匀性。

因此，如何提升料理机的加热均匀性成为当前领域的研究热点问题。

实用新型内容

本公开提供一种料理机，以提升料理机的加热均匀性。

根据本公开的实施例提出一种料理机，包括：

加热组件，包括导磁盘、线圈支架和至少两组线圈；所述线圈支架包括沿其径向设置的至少两个容纳部，所述线圈对应收容于所述容纳部中；所述线圈包括至少一层子线圈，且至少两个所述容纳部中的所述线圈的所述子线圈层数不等；所述导磁盘对应设置于所述线圈上方；

刀具组件，与所述导磁盘组装配合；

杯组件，包括杯体，所述刀具组件组装于所述杯体内部。

可选的，所述加热组件还包括支撑件，所述支撑件设置于所述容纳部且位于所述线圈的下方。

可选的，所述线圈支架的中心区域设有组装部，所述线圈支架包括靠近所述组装部的内侧区域、远离所述组装部的外侧区域和位于所述内侧区域和外侧区域之间的中部区域；所述中部区域设有第一容纳部，所述内侧区域设有第二容纳部，所述外侧区域设有第三容纳部；

收容于所述第一容纳部的子线圈层数分别小于收容于所述第二容纳部的子线圈层数以及收容于所述第三容纳部的子线圈层数。

可选的，收容于所述第二容纳部的线圈与收容于所述第三容纳部的线圈的子线圈层数不等。

可选的，收容于所述第三容纳部的线圈的子线圈层数大于收容于所述第二容纳部的线圈的子线圈层数。

可选的，所述加热组件还包括磁环，所述磁环组装于所述组装部内。

可选的，所述加热组件还包括磁条，所述线圈支架上设有定位部，所述磁条组装于所述线圈支架下方，且与所述定位部组装配合。

可选的，所述磁条还包括凸缘，所述凸缘设置在所述磁条的边缘位置。

可选的，所述加热组件组装于所述杯体底部。

可选的，所述料理机还包括机座，所述机座包括主控件和设置在所述机座顶部的安装部；所述导磁盘组装于所述杯体底部，所述线圈支架组装于所述安装部，所述线圈与所述主控件电连接。

本公开的实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果：

本公开通过为料理机加热组件的线圈支架设置至少两个容纳部，并使线圈对应的收容于容纳部内，使得至少两个容纳部内的线圈包含的子线圈的层数不等。通过在线圈支架不同区域中的容纳部中组装具备适宜层数的子线圈，调整了位于线圈支架不同区域的线圈与位于其上方的导磁盘配合所产生的热量，因此提升了料理机的加热均匀性。

应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本公开。

附图说明