[实用新型]介质残留检测结构、暂存装置及介质处理机

权利要求书

1.一种介质残留检测结构，其特征在于，包括第一检测传感器、第二检测传感器及滚筒组结构，所述滚筒组结构相对于所述第一检测传感器及第二检测传感器旋转，所述第一检测传感器用于产生第一检测信号，所述滚筒组结构包括滚筒本体、滚筒柱及遮光片，所述滚筒柱与所述滚筒本体连接以形成供所述第一检测信号穿过的第一检测空间，所述遮光片设置在所述滚筒本体上且与所述滚筒柱在所述滚筒组结构的横截面上的投影存在预设相位差，所述第二检测传感器用于产生第二检测信号且与所述遮光片配合。

2.根据权利要求1所述的介质残留检测结构，其特征在于，所述遮光片遮挡所述第二检测信号时，所述第一检测信号穿过所述第一检测空间。

3.根据权利要求1所述的介质残留检测结构，其特征在于，所述遮光片遮挡所述第二检测信号时，所述滚筒柱遮挡所述第一检测信号。

4.根据权利要求1所述的介质残留检测结构，其特征在于，所述滚筒柱及遮光片均为多个，多个所述滚筒柱沿所述滚筒本体的周向间隔排布，多个所述遮光片与多个所述滚筒柱一一对应布置。

5.根据权利要求1所述的介质残留检测结构，其特征在于，所述第一检测传感器包括第一信号发射部及第一信号接收部，所述滚筒组结构位于所述第一信号发射部与所述第一信号接收部之间，所述第一信号发射部用于产生所述第一检测信号，所述第一信号接收部用于接收所述第一检测信号。

6.根据权利要求1所述的介质残留检测结构，其特征在于，所述第二检测传感器具有供所述第二检测信号穿过的第二检测空间，所述滚筒组结构相对于所述第二检测传感器旋转时，所述遮光片能进入所述第二检测空间。

7.根据权利要求1所述的介质残留检测结构，其特征在于，所述滚筒本体包括第一滚筒及第二滚筒，所述第一滚筒可拆卸地连接在所述第二滚筒上，所述遮光片与所述滚筒柱，其中一个设置在所述第一滚筒上，另外一个设置在所述第二滚筒上。

8.根据权利要求7所述的介质残留检测结构，其特征在于，所述滚筒柱设置在所述第一滚筒的端部，所述遮光片设置在所述第二滚筒背离所述第一滚筒的一端。

9.根据权利要求7所述的介质残留检测结构，其特征在于，所述第二滚筒包括本体部及连接在所述本体部上的连接部，所述第一滚筒上设置有插接孔，所述连接部设置在所述本体部靠近所述第一滚筒的一端，所述连接部插接在所述插接孔内。

10.根据权利要求9所述的介质残留检测结构，其特征在于，所述第二滚筒还包括设置在所述本体部与所述连接部之间的固定部，所述固定部的外径大于所述连接部的外径，所述固定部至所述滚筒柱的方向与所述第二滚筒的径向向外的方向一致。

11.一种暂存装置，其特征在于，包括安装架及权利要求1-10任意一项所述的介质残留检测结构，所述安装架内形成有容置腔，所述介质残留检测结构位于所述容置腔内，所述滚筒组结构与所述安装架转动连接，所述第一检测传感器及第二检测传感器设置在所述安装架上。

12.一种介质处理机，其特征在于，包括权利要求11所述的暂存装置。