[实用新型]一种溅射镀膜阴极系统有效
| 申请号： | 201821531010.8 | 申请日： | 2018-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN209227050U | 公开（公告）日： | 2019-08-09 |
| 发明（设计）人： | 王策;李先林;吕勇 | 申请（专利权）人： | 华夏易能（海南）新能源科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 11489 | 代理人： | 陈超 |
| 地址： | 570216 海南省海口市南海*** | 国省代码： | 海南;46 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 屏蔽罩 靶材利用率 固定磁体 溅射镀膜 旋转磁体 阴极系统 靶材 刻蚀 不均匀性 磁场分布 刻蚀区域 中部区域 不均匀 镀膜层 拐弯处 均匀性 开口 应用 | ||
1.一种溅射镀膜阴极系统，其特征在于，包括：旋转磁体(1)、固定磁体(2)和屏蔽罩(3)；
所述屏蔽罩(3)一侧设置有开口，且所述旋转磁体(1)和所述固定磁体(2)设置在所述屏蔽罩(3)内部。
2.根据权利要求1所述的溅射镀膜阴极系统，其中所述旋转磁体(1)包括中心磁体(11)、圆周磁体(12)和旋转机构(13)；
所述中心磁体(11)与所述圆周磁体(12)朝向靶材(5)的磁极其二者极性相反，且所述中心磁体(11)和所述圆周磁体(12)磁极方向与所述靶材(5)平面垂直；
所述中心磁体(11)与所述圆周磁体(12)设置在所述旋转机构(13)上，所述旋转机构(13)带动所述圆周磁体(12)围绕所述中心磁体(11)做圆周运动。
3.根据权利要求2所述的溅射镀膜阴极系统，其中所述旋转磁体(1)为多个,多个所述旋转磁体(1)均匀布置。
4.根据权利要求3所述的溅射镀膜阴极系统，其中多个所述旋转磁体(1)等间距排布在一条直线上。
5.根据权利要求2-4任一项所述的溅射镀膜阴极系统，其中所述固定磁体(2)与所述中心磁体(11)朝向所述靶材(5)的磁极其二者极性相同。
6.根据权利要求5所述的溅射镀膜阴极系统，其中所述固定磁体(2)与所述屏蔽罩(3)固定连接。
7.根据权利要求6所述的溅射镀膜阴极系统，其中所述固定磁体(2)、所述中心磁体(11)和所述圆周磁体(12)为长条形。
8.根据权利要求1-4任一项所述的溅射镀膜阴极系统，其中所述固定磁体(2)为多个。
9.根据权利要求1-4任一项所述的溅射镀膜阴极系统，还包括冷却装置(4)，
所述冷却装置(4)设置在靶材(5)和所述旋转阴极之间。
10.根据权利要求9所述的溅射镀膜阴极系统，其中所述冷却装置(4)为非导磁材料制作。
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