[实用新型]锅盖组件及烹饪器具有效

专利信息
申请号: 201821513859.2 申请日: 2018-09-14
公开(公告)号: CN209300849U 公开(公告)日: 2019-08-27
发明(设计)人: 梁志佳;刘化勇;黄韦铭;罗飞龙;吴慧民;邢胜华;羊小亮;瞿月红 申请(专利权)人: 佛山市顺德区美的电热电器制造有限公司
主分类号: A47J36/06 分类号: A47J36/06;A47J36/24
代理公司: 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 代理人: 胡海国
地址: 528311 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 线圈绕组 盖板 锅盖主体 锅盖组件 正对 本实用新型 烹饪器具 通气孔 错开设置 电磁加热 电磁能量 适配 通电
【权利要求书】:

1.一种锅盖组件,其特征在于,包括:

锅盖主体,包括处在下侧的盖板;以及,

线圈绕组,设于所述锅盖主体内,用以在通电时对所述盖板进行电磁加热;

其中,所述盖板上形成有与所述线圈绕组正对且形状相适配的正对区域,所述盖板上贯设有通气孔,所述通气孔位于所述正对区域的外侧,以与所述线圈绕组呈错开设置。

2.如权利要求1所述的锅盖组件,其特征在于,所述盖板的下侧面自周缘朝中部呈上凹设置。

3.如权利要求1所述的锅盖组件,其特征在于,所述线圈绕组包括多匝呈内外圈设置的线圈,所述多匝线圈的外侧在对应所述通气孔的位置呈内凹设置,以形成有凹陷区,所述通气孔至少部分正对所述凹陷区布设。

4.如权利要求3所述的锅盖组件,其特征在于,所述线圈绕组在所述凹陷区处的线圈分布密度,比与所述凹陷区相邻且靠近所述线圈绕组的中部的区域的线圈分布密度大。

5.如权利要求1所述的锅盖组件,其特征在于,所述线圈绕组自中部朝边缘的方向上线圈分布密度呈渐密设置;和/或,

所述锅盖组件还包括用以侦测所述盖板处温度的温度感应器,所述温度感应器对应所述线圈绕组的中部设置。

6.如权利要求1所述的锅盖组件,其特征在于,所述盖板的局部向下凹陷形成有凹坑,所述凹坑开设有回流孔,所述凹坑至少部分位于所述正对区域内。

7.如权利要求6所述的锅盖组件,其特征在于,所述凹坑的底壁局部上凸形成有凸起,所述回流孔开设于所述凸起;和/或,

所述线圈绕组具有正对所述凹坑设置的正对凹坑区,所述线圈绕组在所述正对凹坑区处的线圈分布密度,比所述正对所述凹坑区外围的相邻区域的线圈分布密度大。

8.如权利要求6所述的锅盖组件,其特征在于,所述线圈绕组包括多匝呈内外圈设置的线圈,所述多匝线圈的形状均与所述正对区域的形状相适配。

9.如权利要求1所述的锅盖组件,其特征在于,所述锅盖组件还包括线圈支架,所述线圈支架与所述盖板依次沿上下向呈间隔设置,所述线圈绕组安装于所述线圈支架。

10.一种烹饪器具,其特征在于,包括如权利要求1至9任意一项所述的锅盖组件。

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