[实用新型]等离子体沉积装置

权利要求书

1.一种等离子体沉积装置，包括用于容纳晶圆的反应腔室，其特征在于，还包括：

射频电源，用于向所述反应腔室传输射频信号，使所述反应腔室中的反应气体发生辉光放电生成等离子体；

传感器，用于检测所述反应腔室中的辉光强度；

控制器，同时连接所述传感器和所述射频电源，用于判断所述辉光强度是否在预设范围内，若否，则调整所述射频电源传输至所述反应腔室的功率大小。

2.根据权利要求1所述的等离子体沉积装置，其特征在于，所述反应腔室的侧壁具有至少一开口，所述传感器置于所述开口内。

3.根据权利要求2所述的等离子体沉积装置，其特征在于，所述反应腔室的侧壁具有关于所述反应腔室的中心对称分布的多个开口，多个所述传感器一一置于多个所述开口内。

4.根据权利要求2所述的等离子体沉积装置，其特征在于，还包括设置于所述传感器的入光面与所述反应腔室之间的过滤器，用于过滤所述反应腔室中的干扰光信号。

5.根据权利要求4所述的等离子体沉积装置，其特征在于，所述过滤器为仅允许紫外光透过的滤光膜。

6.根据权利要求4所述的等离子体沉积装置，其特征在于，所述过滤器置于所述开口内；所述过滤器的入光面上设置有至少一喷嘴，吹扫气体经所述喷嘴朝向所述过滤器的入光面喷射。

7.根据权利要求6所述的等离子体沉积装置，其特征在于，至少一喷嘴包括位于所述过滤器边缘的多个喷嘴，且多个喷嘴关于所述过滤器的入光面均匀分布。

8.根据权利要求6所述的等离子体沉积装置，其特征在于，所述控制器连接所述喷嘴，用于调整所述喷嘴喷射所述吹扫气体的流速。

9.根据权利要求6所述的等离子体沉积装置，其特征在于，所述吹扫气体为氮气或者惰性气体。