[实用新型]一种抛光机构整体移动式研磨装置

权利要求书

1.一种抛光机构整体移动式研磨装置，其特征在于：包括工作台(1)、若干固定机构(2)、抛光机构(3)、定位机构(4)和驱动装置(5)，所述所有的固定机构(2)由前到后依次排列在工作台(1)上用于固定被抛光的不锈钢管(6)，所述工作台(1)上设有位于最后方的固定机构(2)的后方的定位机构(4)，所述工作台(1)上设有驱动装置(5)用于驱动位于不锈钢管(6)内的抛光机构(3),所述抛光机构(3)包括抛光电机(31)、抛光轮(32)、两个滑动支撑装置(33)、隔磁盒(34)和被吸引体(35)，所述抛光电机(31)的转动轴上设有抛光轮(32)，所述抛光电机(31)的壳体的两端均设有滑动支撑装置(33)，所述抛光电机(31)的壳体上端设有隔磁盒(34)，所述隔磁盒(34)内设有被吸引体(35)，所述驱动装置(5)包括驱动电机(51)、两个滑轨(52)、滑座(53)、螺纹杆(54)和电磁铁(55)，所述工作台(1)上设有两个滑轨(52)，所述两个滑轨(52)上设有可滑动的滑座(53)，所述滑座(53)上设有支撑体(56)，所述支撑体(56)在不锈钢管(6)的上方设有用于吸引被吸引体(35)的电磁铁(55)。

2.如权利要求1所述的一种抛光机构整体移动式研磨装置，其特征在于：所述滑动支撑装置(33)包括环状体(331)、若干滑动体(332)和若干滚轮(333)，所述环状体(331)上穿设有均匀分布的滑动体(332)，所述滑动体(332)的外端均设有抵触在不锈钢管(6)内壁上的滚轮(333)，所述滑动体(332)通过紧固螺栓与环状体(331)固定连接。

3.如权利要求1所述的一种抛光机构整体移动式研磨装置，其特征在于：所述固定机构(2)包括搁置座(21)、气缸(22)、两个挂钩(23)、连接座(24)和固定带(25)，所述搁置座(21)设在工作台(1)的上端上，所述搁置座(21)的上端设有与不锈钢管(6)相配合的容纳槽(26)，所述工作台(1)的底部设有与搁置座(21)一一对应的气缸(22)，所述气缸(22)的活塞杆上均设有连接座(24)，所述连接座(24)的两端均设有上端伸出工作台(1)的挂钩(23)，所述搁置座(21)位于两个挂钩(23)之间，所述固定带(25)的两端均设有与挂钩(23)相配合的挂环(27)。

4.如权利要求1所述的一种抛光机构整体移动式研磨装置，其特征在于：所述定位机构(4)包括支座(41)、套管(42)和环状挡圈(43)，所述工作台(1)上设有支座(41)，所述支座(41)上设有套管(42)，所述套管(42)的前通道(44)的直径与不锈钢管(6)的外径相等，所述套管(42)的后通道(45)的直径与不锈钢管(6)的内径相等，所述后通道(45)的后端内设有环状挡圈(43)。

5.如权利要求1至4中任一项所述的一种抛光机构整体移动式研磨装置，其特征在于：所述工作台(1)上在定位机构(4)的后方设有自动卷线器(7)用于卷绕与抛光电机(31)连接的电源线(8)，所述电源线(8)的拉出端连接有插座(9)，所述插座(9)上设有钩体(11)，所述抛光电机(31)的壳体的后端设有挂设钩体(11)的挂环体(10)。