[实用新型]抛光垫有效
| 申请号： | 201821473729.0 | 申请日： | 2018-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN208826319U | 公开（公告）日： | 2019-05-07 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/26 | 分类号： | B24B37/26 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 袁礼君;阚梓瑄 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 抛光垫 研磨槽 抛光表面 槽深 渐增 抛光垫中心 边缘位置 抛光过程 研磨液 抛光 | ||
本公开提出一种抛光垫，具有抛光表面，抛光表面上设有研磨槽。其中，研磨槽的槽深在由抛光垫中心位置至抛光垫边缘位置的方向上渐增。本公开提出的抛光垫在抛光过程中，当抛光垫的转速一定的情况下，根据经典力学原理可知上述研磨槽槽深渐增的设计能够加快研磨液的流速。
技术领域
本公开涉及化学机械研磨抛光设备技术领域，尤其涉及一种抛光垫。
背景技术
抛光垫(pad)作为化学机械研磨工艺(Chemical Mechanical Polishing，CMP)中对晶片进行研磨抛光的重要耗材，存在极高的消耗率。每张抛光垫都直接影响CMP工艺的品质、研磨率、均匀度、缺陷形成等。
抛光垫的设计制造以沟槽纹路(groove)为其关键。沟槽纹路的作用主要包括承载研磨液(slurry)、传输研磨副产品(byproduct)和研磨碎片(debris)以及作为散发热量的通道。现有抛光垫的沟槽纹路设计主要包括网格状(X-Y)、圆环状(Circular)、辐射状(Radial)、螺旋状(Spiral)等，进一步包括上述设计的组合，例如网格状与圆环状的组合(X-Y+Circular)、圆环状与辐射状的组合(Circular+Radial)。
Circular X-Y X-Y+Circular Circular+Radial 研磨液的散布速度 慢 快 部分快/部分慢 部分快/部分慢 波弓持液率 高 低 低 低 研磨液的更新速度 最慢 快 慢 慢 研磨液利用率 高 低 最低 极低 热量/碎屑散除 慢 快 部分快/部分慢 部分快/部分慢 研磨抛光质量 低 高 极高 高
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