[实用新型]一种化学水浴沉积装置有效
申请号: | 201821468426.X | 申请日: | 2018-09-07 |
公开(公告)号: | CN209024643U | 公开(公告)日: | 2019-06-25 |
发明(设计)人: | 张冲;王雪戈 | 申请(专利权)人: | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 |
主分类号: | C23C18/00 | 分类号: | C23C18/00 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 许静;黄灿 |
地址: | 100176 北京市大兴区北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 本实用新型 加热方式 水浴锅 加热丝 温度均匀性 沉积装置 化学水 内侧壁 沉积 加热 环绕 薄膜沉积过程 薄膜材料 薄膜沉积 底部加热 水浴环境 水浴加热 薄膜 温差 保证 外部 改进 | ||
本实用新型提供一种化学水浴沉积装置,包括:水浴锅;加热丝,环绕水浴锅的内侧壁设置或环绕水浴锅的内侧壁和底部设置。可见,本实用新型实施例将加热丝的加热方式由底部加热方式改进为了四周环形加热方式,或在加热丝的现有加热方式的基础上增加了四周环形加热方式,这样一方面能够增大加热面积,另一方面能够保证水浴锅的不同高度处的温度均匀性。由于加热面积的增大,本实用新型实施例中的水浴加热速度能够得到提升,这样能够提高薄膜沉积效率。由于不同高度处的温度均匀性得到保证,本实用新型实施例能够避免不同高度处的温差过大而对薄膜沉积过程造成不良的影响,以为薄膜材料的沉积创造一个更良好的外部水浴环境,从而提高沉积的薄膜质量。
技术领域
本实用新型涉及薄膜材料制备技术领域,尤其涉及一种化学水浴沉积装置。
背景技术
目前,薄膜材料的使用越来越普遍,薄膜材料存在多种制备方法,例如磁控溅射法、丝网印刷法、热蒸发法、电沉积法,以及化学水浴沉积法(Chemical Bath Deposition,简称为CBD)等。
在上述各种方法中,化学水浴沉积法由于属于非真空制备法,且具备沉积装置结构简单、沉积温度低、能耗小等优点而受到了科研界和产业界的广泛青睐。然而,目前的化学水浴沉积装置中的水浴锅的加热速度非常慢,水浴锅通常需要加热非常长的时间后才能达到预定温度,同时水浴锅的不同高度处的温度分布不均匀,这样会严重影响薄膜沉积效率和质量。
实用新型内容
本实用新型实施例提供一种化学水浴沉积装置,可以缩短化学水浴沉积装置中的水浴锅加热时间,确保水浴锅不同高度的温度分布均匀,提高沉积的薄膜质量。
本实用新型实施例提供一种化学水浴沉积装置,包括:
水浴锅;
加热丝,所述加热丝环绕所述水浴锅的内侧壁设置;或所述加热丝环绕所述水浴锅的内侧壁和底部设置。
可选地,所述化学水浴沉积装置还包括:
第一搅拌件,所述第一搅拌件转动设置于所述水浴锅的底部,所述第一搅拌件在工作状态下进行转动。
可选地,所述水浴锅的底部的中心区域设置有一个所述第一搅拌件;和/或,
所述水浴锅的底部的非中心区域设置有一个及以上所述第一搅拌件。
可选地,在所述水浴锅的底部的非中心区域设置有一个以上所述第一搅拌件的情况下,一个以上所述第一搅拌件相对于所述水浴锅的底部的中心区域呈以下至少一种形状分布:
辐射状、中心对称、圆形、椭圆形、三角形、多边形、十字形,同心正方形、同心长方形、同心圆、同心三角形和其他同心多边形。
可选地,所述水浴锅的底部开设有第一凹槽;
所述第一搅拌件设置于所述第一凹槽内。
可选地,所述第一搅拌件包括:
主体,所述主体转动设置于所述水浴锅的底部,所述主体沿外圆周面的周向间隔设置有第一连接部和第二连接部;
第一扇叶,所述第一扇叶与所述第一连接部固定连接;
第二扇叶,所述第二扇叶与所述第二连接部固定连接。
可选地,所述化学水浴沉积装置还包括:
第一转速旋钮,所述第一转速旋钮用于调节所述第一搅拌件的转动速度。
可选地,所述化学水浴沉积装置还包括:
磁子模块,所述磁子模块转动设置于所述水浴锅的底部,所述磁子模块在工作状态下进行转动,以带动所述水浴锅水浴加热的样品容器内的磁性搅拌子转动。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理