[实用新型]兼具清洁、研磨与抛光功能的抛光垫与应用其的抛光装置有效
| 申请号： | 201821420132.X | 申请日： | 2018-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN209360588U | 公开（公告）日： | 2019-09-10 |
| 发明（设计）人： | 林清吉 | 申请（专利权）人： | 林清吉 |
| 主分类号： | A47L11/292 | 分类号： | A47L11/292;A47L11/30;A47L11/14;A47L11/40;B24D13/14;B24D3/00 |
| 代理公司： | 北京市浩天知识产权代理事务所(普通合伙) 11276 | 代理人： | 刘云贵 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 抛光装置 研磨 抛光垫 清洁面 抛光功能 研磨部件 抛光 应用 本实用新型 人造大理石 抛光步骤 清洁步骤 清洁部件 清洁 花岗石 石英砖 省时 大理石 背面 粗糙 地板 裸露 | ||
1.一种兼具清洁、研磨与抛光功能的抛光垫，其特征在于，所述抛光垫，包括：
清洁部件，具有粗糙的清洁面与背面；以及
抛光及研磨部件，设置于所述清洁面，其中所述抛光及研磨部件裸露于部分所述清洁面。
2.根据权利要求1所述的抛光垫，其特征在于，所述清洁部件为圆形，且所述清洁部件具有中央贯孔。
3.根据权利要求2所述的抛光垫，其特征在于，所述抛光及研磨部件由复数个抛光研磨子部件所构成。
4.根据权利要求3所述的抛光垫，其特征在于，各抛光研磨子部件以所述中央贯孔为中心呈对称排列。
5.根据权利要求3所述的抛光垫，其特征在于，各抛光研磨子部件以所述中央贯孔为中心呈放射状排列。
6.根据权利要求3所述的抛光垫，其特征在于，各抛光研磨子部件以所述中央贯孔为中心呈同心圆状排列。
7.根据权利要求1所述的抛光垫，其特征在于，所述抛光及研磨部件占所述清洁面的面积的一半。
8.根据权利要求1所述的抛光垫，其特征在于，所述抛光及研磨部件由研磨粉、抛光剂及凝胶所组成。
9.一种抛光装置，其特征在于，所述抛光装置，包括：
本体；
转盘，可转动地连接于所述本体；
固定座，连接于所述转盘；
刮除机构，设于所述本体且位于所述固定座后方；以及
根据权利要求1～8中任一项所述的抛光垫，所述抛光垫设置于所述固定座中。
10.根据权利要求9所述的抛光装置，其特征在于，所述抛光装置还进一步包括有吸取机构，所述吸取机构设于所述本体中，且所述吸取机构通过连通管与所述刮除机构连接。
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