[实用新型]一种镀膜设备

说明书

本实用新型涉及化工设备技术领域，具体而言，涉及一种镀膜设备，包括真空腔室、布气管路以及在真空腔室内用于镀膜的基片和靶材，所述布气管路包括固定在真空腔室内的定管和至少一个在真空腔室内相对于定管可移动的动管，所述定管和动管分别设置至少一个用于向真空腔室内输送工艺气体的进气孔，通过移动动管，镀膜设备能够根据镀膜情况调整真空腔室内局部工艺气体分布。

技术领域

本实用新型涉及化工设备技术领域，具体而言，涉及一种镀膜设备。

背景技术

溅射技术是在真空溅射腔室通入惰性气体(一般为氩气)，利用气体辉光放电产生等离子体，其中电子在电场的作用下飞向基片，在此过程中与Ar原子发生碰撞，使其电离，而等离子体中的正离子经电场加速后高速轰击阴极靶材，使阴极靶表面的原子被溅射出来并沉积到衬底上形成薄膜。对于膜层质量来讲，薄膜膜厚的均匀性的一项非常重要的指标；影响膜层质量的参数很多，其中工艺气体的均匀性以及磁场分布的均匀性等对镀膜质量影响很大。

工艺气体分布不均匀或工艺气体与真空腔室内磁场分布不相匹配时，镀膜不均匀，当发生工艺气体分布与当前镀膜情况的不匹配时，无法及时快速调整工艺气体的分布，镀膜质量受到严重影响。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种镀膜设备，其能够根据镀膜情况调整及优化真空腔室内工艺气体的分布。

本实用新型的实施例是这样实现的：

一种镀膜设备，包括真空腔室、布气管路以及在所述真空腔室内用于镀膜的基片和靶材；

所述布气管路包括设置在真空腔室内的定管和至少一个在真空腔室内可相对于所述定管移动的动管；

所述定管和动管分别设置多个用于向真空腔室内输送工艺气体的进气孔。

可选地，上述定管和所述动管位于所述靶材朝向所述基片一端的任意一侧面。

可选地，上述进气孔分别沿所述定管的轴线和所述动管的轴线排列设置。

可选地，上述定管的进气孔和所述动管的进气孔朝向相同且均朝向所述靶材与所述基片之间的区域。

可选地，上述镀膜设备还包括滑动轴，所述动管滑动连接所述滑动轴，所述动管沿所述滑动轴的轴线方向滑动。

可选地，上述动管与所述定管距离所述靶材的水平距离相等。

可选地，上述动管和所述定管并列设置。

可选地，上述定管相对于所述靶材朝向所述基片一端的端面水平设置或竖直设置。

可选地，上述镀膜设备还包括MFC，所述MFC用于控制所述动管进气孔进气流量的大小。

可选地，上述布气管路设置有两个且分别为位于所述靶材朝向所述基片一端的相对两侧。

MFC即质量流量计，是一种精确测量气体流量的仪表，全称Mass Flow Meter。

本方案中记载的主要内容为：动管相对于定管可移动设置在真空腔室内，以及定管和动管相对于靶材的位置关系，不涉及靶材的形状，当靶材为平面矩形靶材时，定管和动管距离矩形靶材的水平距离相等，进一步的，当靶材为圆柱形靶材时，定管与靶材轴线的距离等于定管与靶材轴线的距离；

定管和动管分别排列设置多个进气孔，动管进气孔与定管进气孔朝向靶材与基片之间区域并输送工艺气体，当定管的工艺气体进气不均匀或定管的工艺气体进气分布与真空腔室内磁场分布不匹配时，通过改变动管的位置，调整动管进气孔的位置，从而改变真空腔室内工艺气体的分布，保证镀膜的均匀性及镀膜质量。

本实用新型中，定管和动管上的进气孔为设置在不同部位但结构相同的进气孔，工艺气体通过进气孔进入真空腔室内部。