[实用新型]涂膏斗翻转器

说明书

本实用新型属于极板涂膏技术领域，尤其涉及一种涂膏斗翻转器，包括涂膏斗，还包括用于限制涂膏斗翻转幅度的定位单元和用于驱动涂膏斗翻转的翻转单元，翻转单元包括用于带动涂膏斗翻转的活动杆和用于驱动活动杆转动的动力部。具有上述结构的翻转器，能够解决现有技术中涂膏斗取下困难带来的清洗困难的问题。

技术领域

本实用新型属于极板涂膏技术领域，尤其涉及一种涂膏斗翻转器。

背景技术

加工极板通常采用的方式是在板栅表面进行涂膏，加工不同的极板需要在涂膏斗中添加不同的极膏。涂膏斗使用一段时间后，需要对其进行清洗，防止极膏不断粘附在涂膏斗中造成涂膏斗的容积不断减小。然而现有的涂膏装置上的涂膏斗一般位于较高处，将其取下来较为困难。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种涂膏斗翻转器，以解决现有技术中涂膏斗取下困难带来的清洗困难的问题。

为了达到上述目的，本实用新型的基础方案为：涂膏斗翻转器，包括涂膏斗，还包括用于限制涂膏斗翻转幅度的定位单元和用于驱动涂膏斗翻转的翻转单元，翻转单元包括用于带动涂膏斗翻转的活动杆和用于驱动活动杆转动的动力部。

本基础方案的工作原理在于：打开动力部，动力部带动活动杆转动，活动杆转动带动涂膏斗翻转。当涂膏斗的一侧与定位单元接触时，关闭动力部，即实现了涂膏斗的定位。

本基础方案的有益效果在于：①涂膏斗在翻转单元的带动下翻转，与涂膏斗不翻转相比，本方案方便对涂膏斗进行清洗。②定位单元对涂膏斗翻转的幅度进行限制，从而将涂膏斗翻转到合适的位置，方便对涂膏斗进行清洗。

进一步，还包括支架以及与支架转动连接的活动轴，涂膏斗的一侧与活动轴固定连接，活动杆与活动轴固定连接。涂膏斗在翻转的过程中是以活动轴为转动中心进行翻转，限制了涂膏斗的翻转位置和移动位置。

进一步，定位单元和活动轴位于涂膏斗的同侧，定位单元包括齿轮、第一竖杆和定位柱，定位柱上设有竖向的第一滑槽，第一竖杆滑动连接在第一滑槽内，第一竖杆上设有第一齿条，第一齿条与齿轮啮合，所述动力部还驱动齿轮转动。涂膏斗未翻转时，第一竖杆位于定位柱的底部。动力部带动涂膏斗翻转的同时，还会带动齿轮转动，由于齿轮与第一齿条啮合，第一竖杆会在齿轮的带动下向上移动，当第一竖杆的上端与涂膏斗的一侧接触时，关闭动力部，即实现了对涂膏斗的翻转和定位。当涂膏斗清洗完成后，使动力部反向运作，齿轮和活动杆均反向转动，齿轮转动带动第一竖杆向下移动，直至第一竖杆的下端与定位柱的底面接触，关闭动力部，涂膏斗即翻转回原来的位置。

本方案中定位单元的设置不仅避免了涂膏斗过度翻转造成清洗困难的情况，同时还能控制涂膏斗反向翻转的幅度，使清洗完成的涂膏斗的底面能够处于水平状态，使后续对板栅进行涂膏的过程中更加的精确。

进一步，第一竖杆的两侧固定弹簧，弹簧的自由端的高度高于第一竖杆的高度。涂膏斗翻转的过程中，先与第一竖杆上的弹簧接触，继续翻转会压缩弹簧，直至涂膏斗与第一竖杆接触。弹簧起到了缓冲的作用，避免第一竖杆与涂膏斗接触时发生较大的冲击力而造成第一竖杆和涂膏斗的损坏。

进一步，涂膏斗的底面设有漏料口，涂膏斗的底面设有第二滑槽，第二滑槽内滑动连接有能够将漏料口封堵的第一挡块。涂膏斗未翻转的情况下，第一挡块与漏料口分离。涂膏斗翻转的过程中，第一挡块会在自身重力的作用下朝漏料口的方向滑动，并将漏料口封堵。本方案能够防止在涂膏斗清洗的过程中，清洗液从漏料口流出，造成对清洗液的浪费以及对其他部件的污染甚至毁坏。

进一步，所述动力部为气缸，气缸固定在支架上，所述活动杆与所述活动轴连接，活动杆上设有导槽，气缸的活塞杆上固定有导柱，导柱滑动连接在导槽内；气缸的活塞杆上设有与齿轮啮合的第二齿条。