[实用新型]一种化学水浴沉积镀膜装置

说明书

本实用新型公开了一种化学水浴沉积镀膜装置，其包括反应装置、第一伸缩机构和第二伸缩机构，所述第一伸缩机构和第二伸缩机构均支撑于所述反应装置的底部并且相对设置，用于交替伸缩以带动所述反应装置摆动。本实用新型的化学水浴沉积镀膜装置，通过第一伸缩机构和第二伸缩机构交替伸缩带动反应装置摆动，使反应装置内的反应药液混合效果较好，镀设的膜层均匀度较高，且反应药液使用量相对较小。

技术领域

本实用新型涉及化学水浴沉积技术领域，尤其涉及一种化学水浴沉积镀膜装置。

背景技术

化学水浴沉积法(Chemical Bath Deposition，简称CBD)近年来广受关注，该方法的优点主要在于：(1)采用中温液相控制，能耗比较少，可以控制粒子的形状和尺寸；(2)原料价格廉价，反应快速、纯度高且结晶良好；(3)在水热过程中，可以通过调节反应液浓度、反应温度、反应时间、溶液PH值等因素，有效地控制反应过程和晶体生长。化学水浴沉积法因其优越性，在太阳能电池领域被广泛应用。

但现有技术中的化学水浴沉积镀膜装置的搅拌方式主要有两种：气搅拌和外循环搅拌。气搅拌是在化学水浴沉积镀膜装置内设置气体管路，通过向化学水浴沉积镀膜装置内通入气体搅拌反应液，但镀膜过程中气体管路容易被沉积的化学颗粒堵塞，造成气体管路产生的气泡分布不均，进而造成膜层厚度不均匀；外循环搅拌是在化学水浴沉积镀膜装置外部设置外循环管路，通过抽取药液使其在外循环管路中循环进而实现药液搅拌，镀膜过程中，药液在外循环管路中循环，容易造成热量损失，并且药液容易沉积在外循环管路中，长时间的沉积会造成外循环管路堵塞。

实用新型内容

有鉴于现有技术中存在的上述问题，本实用新型提供了一种药液混合均匀、镀膜效果较好的化学水浴沉积镀膜装置。

为实现上述目的，本实用新型提供了一种化学水浴沉积镀膜装置，其包括反应装置、第一伸缩机构和第二伸缩机构，所述第一伸缩机构和第二伸缩机构均支撑于所述反应装置的底部并且相对设置，用于交替伸缩以带动所述反应装置摆动。

在一些实施例中，所述化学水浴沉积镀膜装置还包括基座，所述反应装置安装在所述基座上，所述第一伸缩机构和第二伸缩机构均支撑于所述基座的底部，用于通过所述基座带动所述反应装置摆动。

在一些实施例中，所述基座为矩形基座，所述矩形基座包括相对的第一边和第二边，所述第一伸缩机构和第二伸缩机构的数量均为多个，多个所述第一伸缩机构沿所述第一边均匀分布，多个所述第二伸缩机构沿所述第二边均匀分布。

在一些实施例中，所述第一伸缩机构包括第一驱动装置和第一伸缩杆，所述第一伸缩杆的伸出端与所述基座连接，所述第一驱动装置用于驱动所述第一伸缩杆伸缩；所述第二伸缩机构包括第二驱动装置和第二伸缩杆，所述第二伸缩杆的伸出端与所述基座连接，所述第二驱动装置用于驱动所述第二伸缩杆伸缩。

在一些实施例中，所述第一伸缩机构和第二伸缩机构均为气缸。

在一些实施例中，所述反应装置相对于水平面的摆动角度小于等于10°。

在一些实施例中，所述反应装置包括加热板、围挡和反应盖，所述加热板用于固定待沉积件；所述围挡的底部与所述待沉积件的镀膜面密封连接，所述反应盖盖设在所述围挡的顶部并与所述围挡和所述待沉积件的镀膜面围成用于容纳反应药液的空间；或所述围挡的底部与所述加热板密封连接，所述反应盖盖设在所述围挡的顶部并与所述围挡和所述加热板围成用于容纳反应药液和待沉积件的空间。

在一些实施例中，所述加热板上设有多个吸附孔，多个所述吸附孔均与抽气管路连接，多个所述吸附孔用于吸附固定待沉积件。

在一些实施例中，多个所述吸附孔在所述加热板上等间距均匀分布。

在一些实施例中，相邻所述吸附孔之间的间距为25～30厘米，所述吸附孔的孔径为2～4mm。