[实用新型]一种三氧化硫磺化气体分布及搅拌装置

说明书

本实用新型涉及气液搅拌附属装置的技术领域，特别是涉及一种三氧化硫磺化气体分布及搅拌装置，气体分布较为均匀，不易造成局部过磺化；包括传动轴、搅拌盘、气体分布盘和多组分布管，搅拌盘固定安装在传动轴底端，气体分布盘固定套装在传动轴外侧，多组分布管的顶部输出端均连通安装在气体分布盘底端，气体分布盘顶端连通设置有进气管组，气体分布盘内置有导气槽。

技术领域

本实用新型涉及气液搅拌附属装置的技术领域，特别是涉及一种三氧化硫磺化气体分布及搅拌装置。

背景技术

众所周知，磺化反应是将磺酸基引入有机化合物分子中的一类反应，在现代化工领域中占有重要地位，是合成多种有机化工产品的重要步骤，其在表面活性剂、医药、农药及染料等行业中应用广泛，常用的磺化剂有浓硫酸、发烟硫酸、三氧化硫、氯磺酸及亚硫酸盐等，其中三氧化硫与其他磺化剂相比较，具有生产成本低、反应速度快、几乎没有废酸产生、产品质量好等优点，正在慢慢取代其他磺化剂，根据反应器形式的不同，三氧化硫磺化主要分为膜式磺化和釜式磺化两大类，三氧化硫磺化属于气液两相接触反应，并且三氧化硫的反应活性极高，反应过程中三氧化硫气体必须在反应液中均匀分布，否则容易造成局部过磺化，尤其是在釜式磺化装置中，三氧化硫气体分布器及搅拌是核心部件，对磺化反应效果起着决定性影响。

实用新型内容

为解决上述技术问题，本实用新型提供一种气体分布较为均匀，不易造成局部过磺化的三氧化硫磺化气体分布及搅拌装置。

本实用新型的一种三氧化硫磺化气体分布及搅拌装置，包括传动轴、搅拌盘、气体分布盘和多组分布管，搅拌盘固定安装在传动轴底端，气体分布盘固定套装在传动轴外侧，多组分布管的顶部输出端均连通安装在气体分布盘底端，气体分布盘顶端连通设置有进气管组，气体分布盘内置有导气槽。

与现有技术相比本实用新型的有益效果为：三氧化硫气体从进气管组进入气体分布盘，由气体分布盘中的导气槽将气体均匀地分配给各组分布管，分布管底部输出端插入反应液面以下，气体从分布管的底部输出端排出，排出的气体跟液体物料进行接触反应，通过电机带动传动轴上的搅拌盘进行转动，搅拌方式为推进式搅拌，从而方便将反应料液搅拌均匀，分布管的数量为20-60根，其公称直径为DN15、DN20或DN25，推进式搅拌转速为100-500转/分，从而使气体分布更加均匀，很好的解决了反应液局部过磺化的问题，分布管不易堵塞，推进式搅拌转速高，搅拌效果好，可适用于高粘度的反应物料。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图；

附图中标记：1、传动轴；2、搅拌盘；3、气体分布盘；4、分布管；5、进气管组。

具体实施方式

下面结合附图和实施例，对本实用新型的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本实用新型，但不用来限制本实用新型的范围。

如图1所示，本实用新型的一种三氧化硫磺化气体分布及搅拌装置，包括传动轴1、搅拌盘2、气体分布盘3和多组分布管4，搅拌盘固定安装在传动轴底端，气体分布盘固定套装在传动轴外侧，多组分布管的顶部输出端均连通安装在气体分布盘底端，气体分布盘顶端连通设置有进气管组5，气体分布盘内置有导气槽；三氧化硫气体从进气管组进入气体分布盘，由气体分布盘中的导气槽将气体均匀地分配给各组分布管，分布管底部输出端插入反应液面以下，气体从分布管的底部输出端排出，排出的气体跟液体物料进行接触反应，通过电机带动传动轴上的搅拌盘进行转动，搅拌方式为推进式搅拌，从而方便将反应料液搅拌均匀，分布管的数量为20-60根，其公称直径为DN15、DN20或DN25，推进式搅拌转速为100-500转/分，从而使气体分布更加均匀，很好的解决了反应液局部过磺化的问题，分布管不易堵塞，推进式搅拌转速高，搅拌效果好，可适用于高粘度的反应物料。