[实用新型]一种真空平台固定结构

说明书

一种真空平台固定结构，其可实现对弯曲度大于1.5mm的LTCC产品的稳固吸附，可大大提高打标定位的准确性和定位精度，并且可有效避免产品损坏等问题的出现，其包括真空平台，真空平台上设置有真空吸盘，真空吸盘有真空吸附孔，真空吸附孔通过管道与真空发生器连通，其特征在于:真空吸附孔位于真空吸盘的中心位置，在真空吸附孔的周围，真空吸盘由内而外设置有支撑凸筋，凸筋的顶端端面和真空吸盘的端面平齐；真空吸盘的直径为R，LTCC产品的最大长度为H，则2/3*H≥R≥1/2*H，LTCC产品的弯曲度大于等于1.5mm，小于等于1.8mm。

技术领域

本实用新型涉及陶瓷产品生产技术领域，具体为一种真空平台固定结构。

背景技术

LTCC产品是一种采用LTCC技术生产的陶瓷产品，LTCC产品以其优异的电子、机械、热力特性而被广泛应用于电子元件的集成化、模组化生产中。目前LTCC产品的生产工艺流程为基板及原器件封装、镭射打标、切割、测试、包装出货，其中封装完成后的LTCC产品打标主要采用镭射打标设备实现，镭射站目前常用的镭射打标机的主要结构包括进料盒、上料推杆机构、打印和检测区域、出料推杆机构和收料盒，打印和检测区域设置有真空平台结构，现有技术中的打印和检测区域的真空平台主要采用分布式橡胶吸嘴吸附固定LTCC产品，橡胶吸嘴数量为6个或9个，均匀布置于真空平台上，且橡胶吸嘴为周围平齐中间凹陷的单孔结构，其可吸附弯曲度小于1.5mm的LTCC产品，而对于弯曲度大于1.5mm的LTCC产品则无法稳固吸附，在吸附过程中可能导致LTCC产品产生隐裂,从而影响LTCC产品的质量。

实用新型内容

针对现有技术中存在的真空平台的周围平齐中间凹陷的单孔结构的橡胶吸嘴无法吸附固定弯曲度大于1.5mm的LTCC产品及易造成产品隐裂的问题，本实用新型提供了一种真空平台固定结构，其可实现对弯曲度大于1.5mm的LTCC产品的稳固吸附，确保产品质量。

其技术方案是这样的：一种真空平台固定结构，其包括真空平台，所述真空平台上设置有真空吸盘，所述真空吸盘有真空吸附孔，所述真空吸附孔通过管道与真空发生器连通，其特征在于: 所述真空吸附孔位于所述真空吸盘的中心位置，在真空吸附孔的周围，所述真空吸盘由内而外设置有支撑凸筋，所述凸筋的顶端端面和所述真空吸盘的端面平齐；所述真空吸盘的直径为R，所述LTCC产品的最大长度为H，则2/3*H≥ R≥1/2*H，所述LTCC产品的弯曲度大于等于1.5mm，小于等于1.8mm。

其进一步特征在于：所述真空吸盘为橡胶材质；

所述真空吸附孔的周围沿径向设置有呈发射状布置的所述凸筋，在所述发射状布置的凸筋的周围为以同心圆方式布置的环状凸筋，所述环状凸筋上设置有第一缺口，相邻两环上的第一缺口交错布置；

在所述真空吸盘的侧部设置有固定夹，所述固定夹包括支撑段和压紧段，所述支撑段安装于升降结构，所述压紧段和所述真空吸盘盘面之间的夹角大于90°小于等于180°，所述压紧段间隔布置第二缺口，所述第二缺口与所述LTCC产品上的定位识别点相对应；

所述固定夹的压紧段和待压紧的LTCC产品之间用圆弧面接触 。

将本发明的上述结构设置于真空打印平台或真空检测平台，真空吸盘设置有凸筋，凸筋起到支撑作用，凸筋的顶端端面与所述真空吸盘的端面平齐且设置第一缺口，对于所述真空吸盘的直径为R，所述LTCC产品的最大长度为H，则2/3*H≥ R≥1/2*H，所述LTCC产品的弯曲度大于等于1.5mm，小于等于1.8mm，满足这样关系的LTCC产品可以被牢牢吸附的同时又能保证LTCC产品不被吸附变形而造成隐裂，确保了产品质量。而固定夹的设置且固定夹压紧段间隔布置的第二缺口与所述LTCC产品上的定位识别点相对应，有效避免了LTCC产品上的定位识别点被遮挡，确保打印和检测时可实现准确定位，更进一步保证了较高的LTCC产品的质量。

附图说明

图1为本实用新型的俯视的结构示意图；