[实用新型]一种分析化学用搅拌装置

说明书

本实用新型公开了一种分析化学用搅拌装置，包括第一放置仓、搅拌仓、机体和透明窗口，所述机体的顶端安装有顶盖，所述机体的一侧安装有凹槽，且凹槽的一侧安装有透明窗口，且滑轨之间安装有遮光板，所述机体内部的底端安装有第二放置仓，且第二放置仓顶端的机体内部安装有搅拌仓，所述第二放置仓靠近插头一侧的机体内部底端安装有第一放置仓，所述搅拌仓内部的转轴上皆竖向均匀安装有搅拌叶片。本实用新型通过设置有遮光板，遮光板可通过两侧的滑槽在滑轨上移动，进行遮蔽透明窗口的功能，从而保证化学溶液在完全避光的情况下进行搅拌混合，避免光线对化学溶液的干扰，避免影响溶液的性质。

技术领域

本实用新型涉及搅拌装置技术领域，具体为一种分析化学用搅拌装置。

背景技术

在化学工业当中，对化学溶液搅拌混合是当中正常的流程之一，而在这其中，搅拌装置就显得尤为重要，因此现今市场上的此类装置种类繁多，基本可以满足工业的使用需求，但是依然存在一定的问题，比如有的化学溶液对光线的敏感度高，在光照一段时间的情况下，其化学性质会发生改变，因此在搅拌的过程中，需保证其在完全黑暗的环境，但是，搅拌装置完全封闭，工作人员不了解溶液搅拌混合的情况，影响工作的效率。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种分析化学用搅拌装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种分析化学用搅拌装置，包括第一放置仓、搅拌仓、机体和透明窗口，所述机体的顶端安装有顶盖，所述机体的一侧底端通过导线安装有插头，所述机体的一侧安装有凹槽，且凹槽的一侧安装有透明窗口，所述凹槽的两端皆安装有滑轨，且滑轨之间安装有遮光板，所述遮光板的两侧皆安装有滑槽，滑槽和滑轨连接，所述机体内部的底端安装有第二放置仓，且第二放置仓顶端的机体内部安装有搅拌仓，所述第二放置仓靠近插头一侧的机体内部底端安装有第一放置仓，且第一放置仓的内部安装有单片机，所述第二放置仓的一侧安装有密封门，所述第二放置仓内部的底端安装有电机，所述电机的输出端竖向安装有主动轴，且主动轴上安装有主动轮，所述电机两侧的第二放置仓底端皆安装有从动轴，且从动轴上皆安装有从动轮，所述从动轮皆通过皮带和主动轮连接，所述从动轴和主动轴的上方皆竖向安装有转轴，且转轴穿过第二放置仓顶端延伸至搅拌仓内部，所述转轴底端皆通过法兰盘和从动轴和主动轴顶端连接，所述搅拌仓内部的转轴上皆竖向均匀安装有搅拌叶片，所述搅拌仓的底端安装有温度传感器，所述搅拌仓远离插头一侧的底端安装有输出口，所述搅拌仓的两侧皆安装有加热块，所述温度传感器的输出端和单片机输入端之间电性连接，所述单片机的输出端通过导线和加热块电连接，所述搅拌仓和第二放置仓外侧的机体内部设置有加强层，且加强层的内部均匀安装有加强筋。

优选的，所述密封门内侧的边缘处安装有橡胶密封条。

优选的，所述搅拌叶片上均匀设置有突起。

优选的，所述第二放置仓远离第一放置仓一侧的机体内部底端安装有配重块。

优选的，所述顶盖的表面设置有防滑条纹。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该分析化学用搅拌装置通过设置有温度传感器和加热块，温度传感器监测搅拌仓内部的温度，当内部温度低至范围最低值时，温度传感器将信号传递给单片机，单片机控制加热块进行制热工作，当搅拌仓内部的温度升到范围最高值时，温度传感器监测并将信号传递给单片机，单片机控制加热块停止工作，保证搅拌仓内部的温度一直保持在指定范围内，从而实现恒温的功能，同时装置通过设置有遮光板，遮光板可通过两侧的滑槽在滑轨上移动，进行遮蔽透明窗口的功能，从而保证化学溶液在完全避光的情况下进行搅拌混合，避免光线对化学溶液的干扰，避免影响溶液的性质，同时装置通过设置有透明窗口，便于工作人员在不干扰化学溶液性质的情况下，快速的了解搅拌混合情况，同时转轴通过法兰盘皆与主动轴和从动轴的顶端连接，便于工作人员对转轴进行拆卸、替换和维护的工作，延长装置的使用寿命。

附图说明