[实用新型]一种非平衡低温等离子体发生装置

权利要求书

1.一种非平衡低温等离子体发生装置，其特征在于，所述装置包括以下三个部分：由碳刷负离子释放端子与合金牙盘组组成的负电子释放电极；由金属离子屏蔽环作为弧形质子正电极释放端；以及将负电子释放电极和质子正电极释放端组合在一起的一对支撑结构体，其中，碳刷负离子释放端子、合金牙盘组、金属离子屏蔽环和支撑结构体均为在水平方向上同圆心设置，并通过中心轴螺栓杆串连和紧固，且所述碳刷负离子释放端子安装在两个支撑结构体的外侧。

2.根据权利要求1所述的非平衡低温等离子体发生装置，其特征在于，所述合金牙盘组包括7-10个牙盘片体来组成结构件总成，牙盘片体之间通过金属环来间隔，所有的牙盘片体和金属环在水平方向上同圆心设置；牙盘片体之间的距离≥1mm。

3.根据权利要求2所述的非平衡低温等离子体发生装置，其特征在于，所述牙盘片体的直径为15-35mm，厚度为0.1-0.3mm；齿形为三角形，齿高度≥0.6mm；齿尖间距≥0.7mm。

4.根据权利要求2所述的非平衡低温等离子体发生装置，其特征在于，所述牙盘片体以不锈钢材料作为基材，表面镀有惰性金属镀膜；且金属牙盘片体为中部镂空结构。

5.根据权利要求2所述的非平衡低温等离子体发生装置，其特征在于，所述碳刷负离子释放端子为Y型结构，包括3条结构相同的碳刷端子臂，所述3条碳刷端子臂位于同一平面内，尾端汇聚连接于Y型结构中心点，头端展开且相互间隔120°夹角设置。

6.根据权利要求5所述的非平衡低温等离子体发生装置，其特征在于，所述碳刷负离子释放端子由碳纤维或碳纳米管制成；所述碳刷端子臂的长度大于牙盘片体的半径。

7.根据权利要求2所述的非平衡低温等离子体发生装置，其特征在于，所述金属离子屏蔽环两端分别卡接支撑结构体，并将合金牙盘组套在其中；所述金属离子屏蔽环以铜或不锈钢管材为基材，并以绝缘材料进行绝缘涂层处理，绝缘涂层厚度为0.05-1.5mm。

8.根据权利要求2所述的非平衡低温等离子体发生装置，其特征在于，所述支撑结构体包括可伸缩Y型支架，所述可伸缩Y型支架包括位于同一平面内的3条结构相同的可伸缩支架臂，所述可伸缩支架臂包括固定部和套接在固定部上并能沿固定部移动的伸缩部；所述3条可伸缩支架臂的固定部汇聚连接于Y型支架结构中心点，伸缩部向四周展开并在顶端分别设置有弹性钢挡片；在3个伸缩部上还设置有同金属离子屏蔽环卡接的卡槽。

9.根据权利要求8所述的非平衡低温等离子体发生装置，其特征在于，所述3条可伸缩支架臂相互间隔120°夹角设置，并与碳刷负离子释放端子的碳刷端子臂间隔45°-60°夹角设置；且所述弹性钢挡片与可伸缩支架臂垂直设置。

10.根据权利要求1-9中任一项所述的非平衡低温等离子体发生装置，其特征在于，所述非平衡低温等离子体发生装置还设置有外屏蔽环，所述外屏蔽环由矩形弹性金属片卷制而成，且卷制连接部为自由端开口结构，从而可以方便调节外屏蔽环的直径。