[实用新型]一种双通道双视角X射线安检设备有效
申请号: | 201821349910.0 | 申请日: | 2018-08-21 |
公开(公告)号: | CN209132182U | 公开(公告)日: | 2019-07-19 |
发明(设计)人: | 黄琳;汪凤华;王雪华;李蒙;刘斌 | 申请(专利权)人: | 公安部第一研究所;北京中盾安民分析技术有限公司 |
主分类号: | G01N23/04 | 分类号: | G01N23/04;G01V5/00 |
代理公司: | 北京汲智翼成知识产权代理事务所(普通合伙) 11381 | 代理人: | 陈曦;任佳 |
地址: | 100044 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 安检通道 安检设备 双视角 射线扫描 双通道 生产制造工艺 本实用新型 独立运行 角度减小 探测器箱 整体外观 复杂度 照射 美观 协调 | ||
本实用新型公开了一种双通道双视角X射线安检设备。该安检设备包括第一安检通道和第二安检通道,对应于第一安检通道的第一侧照源和第一顶照源,对应于第二安检通道的第二侧照源和第二顶照源;其中,每个侧照源和顶照源分别对应于一组探测器箱,以完成双视角射线扫描。一方面,本安检设备采用独立的侧照源和顶照源完成双视角射线扫描,使得两个安检通道可以独立运行。另一方面,每个安检通道各使用一个顶照源,使得顶照源的照射角度减小,不仅可以降低X射线源生产制造工艺复杂度和成本,还提高了其可靠性。与现有技术相比较,本安检设备的高度适中,整体外观更加协调美观。
技术领域
本实用新型涉及一种X射线安检设备,尤其涉及一种用于托运行李检查的双通道双视角X射线安检设备(简称为安检设备),属于安检技术领域。
背景技术
目前,各大机场用于托运行李的安检设备所使用的X射线源普遍采取侧照方式。这种侧照式安检设备理想的被检物是较高大的货物;但在实际托运行李的检测使用中,被检物的形状大都是宽扁的;并且,宽扁形状的被检物经过侧照式安检设备检查后,图像是窄长的,使得工作人员不易判读。目前,解决该问题的前提条件是要将行李包裹竖立放置。这给工作人员和旅客都带来不便,降低了安检效率。
为此,有的安检设备开始尝试采用顶照加侧照的双视角检查方式。如图1所示,该安检设备的X射线布局是:左、右安检通道各用一个侧照X射线源104(以下简称侧照源),并共用一个顶照X射线源102(以下简称顶照源)。其中,顶照光路布置为“U”型,即顶照探测器箱105由两个垂直探测器箱和一个水平探测器箱构成;左、右通道侧照光路布置为“L型,即两个侧照探测器箱101和103完全对称布置,分别由一个垂直探测器箱和一个水平探测器箱构成。
上述采用双通道的安检设备有以下缺点:
1)对顶照源的照射角度要求高,必须选择大角度X射线源,才能保证照射到两个通道。与普通角度的X射线源相比,大角度X射线源的生产制造工艺更复杂,成本更高,可靠性更低;
2)按照单个顶照布置光路时,为使顶照源照射到两个通道,顶照源的安装位置会比较高,导致整个安检设备高度偏高,使得其外形不美观。
发明内容
本实用新型所要解决的技术问题在于提供一种双通道双视角X射线安检设备。
为了实现上述目的,本实用新型采用下述的技术方案:
一种双通道双视角X射线安检设备,包括第一安检通道和第二安检通道,对应于所述第一安检通道的第一侧照源和第一顶照源,对应于所述第二安检通道的第二侧照源和第二顶照源;其中,每个所述侧照源和所述顶照源分别对应于一组探测器箱,以完成双视角射线扫描。
其中较优地,所述第一侧照源和所述第二侧照源的位置对称且X射线出射口正对。
其中较优地,所述第一侧照源和所述第二侧照源的扫描面位置相同,对应于所述第一侧照源的探测器箱组和对应于所述第二侧照源的探测器箱组的位置对称。
其中较优地,所述第一顶照源和所述第二顶照源分别位于对应的侧照源扫描面的两侧,并且所述第一顶照源和所述第二顶照源的源心相对于对应的侧照源扫描面前后对称放置。
其中较优地,所述第一侧照源和所述第二侧照源的X射线出射口相对,所述第一侧照源和所述第二侧照源分别位于对应的顶照源扫描面的两侧;并且,对应于所述第一侧照源的探测器箱组的垂直探测器箱和对应于所述第二侧照源的探测器箱组的垂直探测器箱相对于对应的顶照源扫描面前后并列放置。
其中较优地,所述第一顶照源和所述第二顶照源背靠背对称设置在所述安检设备的顶部通道上。
其中较优地,所述第一顶照源和所述第二顶照源的扫描面位置相同,对应于所述第一顶照源的探测器箱组和对应于所述第二顶照源的探测器箱组的位置对称。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于公安部第一研究所;北京中盾安民分析技术有限公司,未经公安部第一研究所;北京中盾安民分析技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201821349910.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种X射线探伤仪固定装置
- 下一篇:一种分辨率可调型粒子投影成像系统