[实用新型]一种PECVD设备石墨舟保护机构有效
申请号: | 201821324392.7 | 申请日: | 2018-08-16 |
公开(公告)号: | CN208507638U | 公开(公告)日: | 2019-02-15 |
发明(设计)人: | 林启;陈刚;汪伟;魏玉明 | 申请(专利权)人: | 通威太阳能(成都)有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/673;H01L31/18 |
代理公司: | 成都弘毅天承知识产权代理有限公司 51230 | 代理人: | 杨保刚;邓芸 |
地址: | 610299 四川省成都市双流*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 石墨舟 弧面部 托盘 弧形挡板 弧形滑槽 本实用新型 保护机构 壳体侧壁 平面部 侧板 太阳能电池硅片 工艺过程 硅片碎片 均匀设置 壳体内部 驱动机构 生产设备 两端面 掉落 滑动 产能 产线 壳体 上翘 竖直 倾倒 | ||
本实用新型公开了一种PECVD设备石墨舟保护机构,涉及太阳能电池硅片生产设备技术领域,解决了现有PECVD设备中石墨舟容易倾倒、上方石墨舟中的硅片碎片容易掉落至下方石墨舟中,导致石墨舟损坏、石墨舟在工艺过程中出现高频,从而影响产线产能的问题,本实用新型包括PECVD设备的壳体,壳体内部在竖直方向上均匀设置有若干水平的管桨,管桨上放置有石墨舟,在每个管桨下方的壳体侧壁上均设置有保护托盘,保护托盘包括平面部与上翘的弧面部,平面部与壳体侧壁固定连接,保护托盘两端面设置有侧板,弧面部对应的侧板上开设有弧形滑槽,弧面部上方设置有弧形挡板,弧形挡板两端位于弧形滑槽中,弧面部上设置有带动弧形挡板沿弧形滑槽滑动的驱动机构。
技术领域
本实用新型涉及太阳能电池硅片生产设备技术领域,更具体的是涉及一种PECVD设备石墨舟保护机构。
背景技术
随着社会经济的发展,能源危机和环境污染问题已成为人类面临的最迫切需要解决的问题。太阳能清洁、无污染、取之不尽用之不竭,太阳能发电技术可以将太阳光的辐射能直接转换为电能,是目前可再生能源技术领域中发展最快、最有前途的技术之一。目前80%以上的太阳能电池由晶体硅材料制备而成,制备高效率、低成本的晶体硅太阳能电池对于大规模利用太阳能发电有着十分重要的意义,其中,等离子体增强化学气相沉积(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition,
PECVD)是制备高效晶体硅太阳能电池的关键设备。
PECVD设备构件包括石墨舟与卧置的管式反应炉,石墨舟通常放置在与管式反应炉同一水平面的管桨上,再由外部的移动机构带动石墨舟沿管桨进入管式反应炉内。现有的PECVD设备中通常在竖直方向上安装多个管式反应炉与管桨,每个管桨上都会放置石墨舟,然而在长期的使用过程中,石墨舟中会残留一些硅片的的碎片,这些碎片会掉落至下方的石墨舟中,人员难以发现和清理,石墨舟在炉管中运行工艺时发生短路,导致高频,这就需要停机进行碎片查找,重新运行工艺,从而耽误生产产能。同时石墨舟放置在管桨上并不十分稳定,可能会发生石墨舟跌落的事故,导致整个石墨舟及石墨舟内硅片报废处理,机台停维修,严重耽误产线产能。
实用新型内容
本实用新型的目的在于:为了解决现有PECVD设备中石墨舟容易倾倒、上方石墨舟中的硅片碎片容易掉落至下方石墨舟中,导致石墨舟损坏、石墨舟在工艺过程中出现高频,从而影响产线产能的问题,本实用新型提供一种PECVD设备石墨舟保护机构。
本实用新型为了实现上述目的具体采用以下技术方案:
一种PECVD设备石墨舟保护机构,包括PECVD设备的壳体,壳体内部在竖直方向上均匀设置有若干水平的管桨,管桨上放置有石墨舟,在每个管桨下方的壳体侧壁上均设置有保护托盘,保护托盘包括平面部与上翘的弧面部,平面部与壳体侧壁固定连接,保护托盘两端面设置有侧板,弧面部对应的侧板上开设有弧形滑槽,弧面部上方设置有弧形挡板,弧形挡板两端位于弧形滑槽中,弧面部上设置有带动弧形挡板沿弧形滑槽滑动的驱动机构。
进一步地,驱动机构包括设置在弧形挡板两端外圆周上的弧线齿条,侧板在弧形滑槽开口处设置有与弧线齿条配合的齿轮,齿轮与小型电机配合连接,小型电机固定在侧板外壁上。
进一步地,弧形挡板、弧形滑槽、弧面部的弧度均相同,弧形挡板、弧形滑槽、弧面部所对应的圆心角角度均相同。
进一步地,平面部上开设有碎片出口,碎片出口下方连接有碎片收集管,与保护托盘一一对应的多个碎片收集管均连通设置在壳体外部的碎片收集箱。
进一步地,弧形挡板靠近平面部的一端连接有推板,推板与弧形挡板末端垂直,推板底部与弧面部上表面接触,推板顶部高出侧板。
本实用新型的有益效果如下:
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造