[实用新型]场效应器件、反熔丝、随机数生成装置有效

专利信息
申请号: 201821293999.3 申请日: 2018-08-10
公开(公告)号: CN208722889U 公开(公告)日: 2019-04-09
发明(设计)人: 李运宁;沈健;王文轩 申请(专利权)人: 深圳市为通博科技有限责任公司
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/06
代理公司: 北京合智同创知识产权代理有限公司 11545 代理人: 李杰
地址: 518052 广东省深圳市南山区南头*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 掺杂区 场效应器件 介质层 反熔丝 交叠区 衬底 漏端 源端 栅端 随机数生成装置 低阻态 随机数 击穿 晶圆 克隆 申请
【权利要求书】:

1.一种场效应器件,其特征在于,包括介质层、源端掺杂区、漏端掺杂区、栅端掺杂区以及衬底,其中,所述介质层设置在所述衬底与所述栅端掺杂区之间;所述源端掺杂区及所述漏端掺杂区设置在所述衬底上,且所述栅端掺杂区与所述源端掺杂区形成第一交叠区,所述栅端掺杂区和所述漏端掺杂区形成第二交叠区,所述第一交叠区和第二交叠区分别等效形成一反熔丝电容。

2.根据权利要求1所述的场效应器件,其特征在于,所述第一交叠区在其对应的所述介质层被击穿后呈现低阻态,所述第二交叠区在其对应的所述介质层未被击穿;或者,所述第二交叠区在其对应的所述介质层被击穿后呈现低阻态,所述第一交叠区在其对应的所述介质层未被击穿。

3.根据权利要求2所述的场效应器件,其特征在于,所述第一交叠区在其对应的所述介质层被击穿后,降低所述第二交叠区的电场强度使其对应的所述介质层未被击穿;或者,所述第二交叠区在其对应的所述介质层被击穿后,降低所述第一交叠区的电场强度使其对应的所述介质层未被击穿。

4.根据权利要求2所述的场效应器件,其特征在于,所述栅端掺杂区电连接第一电压,所述源端掺杂区电连接第二电压,所述漏端掺杂区电连接第三电压,所述衬底电连接第四电压,以控制所述第一交叠区或者第二交叠区对应的所述介质层被击穿。

5.根据权利要求4所述的场效应器件,其特征在于,所述源端掺杂区通过第一开关单元电连接所述第二电压,所述漏端掺杂区通过第二开关单元电连接所述第三电压,所述栅端掺杂区通过第三开关单元电连接所述第一电压,以在控制所述第一交叠区或者第二交叠区对应的所述介质层被击穿时,使得所述第一开关单元以及第二开关单元呈现高阻态,并对应地使得所述第三开关单元呈现低阻态。

6.根据权利要求5所述的场效应器件,其特征在于,所述第一开关单元为第一三极管,所述第二开关单元为第二三极管,所述第一三极管与所述第二三极管的栅端互连并第一三极管的源端和第二三极管的源端分别连接所述第二电压和第三电压,所述第一三极管和第二三极管的漏端分别连接到所述场效应器件的源端和漏端掺杂区,所述第一三极管和第二三极管的源端分别连接到地或设定的电位。

7.根据权利要求6所述的场效应器件,其特征在于,所述第一三极管的漏端还连接有第一输出单元,所述第一输出单元用于输出所述第一三极管的漏端的电压,所述第二三极管的漏端还连接有第二输出单元,所述第二输出单元用于输出所述第二三极管的漏端的电压。

8.根据权利要求7所述的场效应器件,其特征在于,所述第一输出单元为第一反相器,所述第二输出单元为第二反相器。

9.根据权利要求5所述的场效应器件,其特征在于,所述第三开关单元为第三三极管,所述第三三极管与所述场效应器件的栅端连接。

10.根据权利要求9所述的场效应器件,其特征在于,所述第三三极管的漏端与所述场效应器件的栅端连接,所述第三三极管的源端连接所述第一电压。

11.根据权利要求1所述的场效应器件,其特征在于,所述源端掺杂区与所述漏端掺杂区以所述衬底在竖直方向上的中心线为参考呈对称关系。

12.根据权利要求11所述的场效应器件,其特征在于,所述对称关系包括下述中的至少一种:尺寸对称、掺杂浓度、与外部电路形成连接关系的对称。

13.根据权利要求1所述的场效应器件,其特征在于,所述源端掺杂区与所述漏端掺杂区之间形成沟道,所述第一交叠区和第二交叠区的电场强度大于所述沟道处的电场强度。

14.根据权利要求1所述的场效应器件,其特征在于,所述第一交叠区和所述第二交叠区对应的所述介质层具有关联于形成工艺随机性的特征参数。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市为通博科技有限责任公司,未经深圳市为通博科技有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201821293999.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top