[实用新型]量子点彩色滤光片的制作系统及掩模板

权利要求书

1.一种应用于制备量子点彩色滤光片的掩模板，包括掩模板基体，其特征在于：所述基体上间隔分布有复数个沉积孔，每一沉积孔与至少一像素坑对应设置，其中至少两个相邻沉积孔之间为遮挡部，所述遮挡部具有凸起结构，所述凸起结构能够将沉积到遮挡部上的量子点墨水引流至相邻沉积孔内。

2.根据权利要求1所述的掩模板，其特征在于：所述掩模板包括由复数个所述遮挡部排列形成的矩阵。

3.根据权利要求1所述的掩模板，其特征在于：所述凸起结构具有圆弧形轮廓。

4.根据权利要求1所述的掩模板，其特征在于：所述复数个沉积孔分别沿相互交叉的第一方向和第二方向排布形成阵列，其中在所述第一方向上，任意两个相邻沉积孔之间间隔两个以上子像素，而在所述第二方向上，任意两个相邻沉积孔之间无间隔。

5.根据权利要求4所述的掩模板，其特征在于：所述第一方向和第二方向相互垂直。

6.一种量子点彩色滤光片的制作系统，其特征在于包括雾化模块和权利要求1-5中任一项所述的掩模板，所述雾化模块其至少用于对量子点墨水进行雾化处理，并且所述雾化模块的雾化物输出方向朝向所述掩模板，所述掩模板掩盖在基板上，所述基板上分布有复数个像素坑。

7.如权利要求6所述的制作系统，其特征在于：所述雾化模块采用超声雾化装置。

8.如权利要求6所述的制作系统，其特征在于：所述雾化模块采用气动雾化装置。

9.如权利要求6所述的制作系统，其特征在于：所述雾化模块采用喷嘴雾化。

10.如权利要求9所述的制作系统，其特征在于：所述雾化模块包括复数个雾化喷嘴。